一种单晶硅抛光片热处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110026225.4

申请日：

2021-01-08

公开(公告)号：

CN113161258A

公开(公告)日：

2021-07-23

发明(设计)人：

詹玉峰陈跃华方勇华

申请人：

申请人地址：

324300 浙江省衢州市开化工业园区园三路1号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21324

代理机构：

温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390

代理人：

虞乘乘

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20210108
2021-07-23	公开	公开

共 50 条

[1]

一种单晶硅抛光片热处理装置及工艺 [P].

王善明 .

中国专利 :CN110170929A ,2019-08-27

[2]

一种单晶硅抛光片热处理工艺 [P].

冯泉林 ;

周旗钢 ;

屠海令 ;

王敬 ;

刘斌 ;

万关良 ;

张果虎 .

中国专利 :CN100338270C ,2006-05-10

[3]

单晶硅衬底双面抛光片 [P].

喻勤建 ;

邓建伟 ;

周理明 .

中国专利 :CN2423655Y ,2001-03-14

[4]

一种单晶硅抛光片生产用抛光装置 [P].

李长坤 ;

谢永奕 .

中国专利 :CN217097163U ,2022-08-02

[5]

一种单晶硅抛光片的清洗方法 [P].

闫志文 ;

王刚 ;

刘园 ;

王广勇 ;

石明 ;

徐荣清 ;

吕莹 ;

张晋会 .

中国专利 :CN107195537A ,2017-09-22

[6]

一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备 [P].

吴晓峰 ;

孙新利 ;

钱奥成 ;

申文婷 .

中国专利 :CN119303892B ,2025-04-08

[7]

一种高洁净度单晶硅抛光片清洗设备 [P].

吴晓峰 ;

孙新利 ;

钱奥成 ;

申文婷 .

中国专利 :CN119303892A ,2025-01-14

[8]

一种单晶硅晶圆抛光片的清洗方法 [P].

罗翀 ;

徐荣清 ;

甄红昌 ;

王玮 ;

吉敏 .

中国专利 :CN102974565A ,2013-03-20

[9]

一种单晶硅抛光片在线检测仪 [P].

邓德翼 ;

高烨 ;

赵文龙 ;

胡晓亮 ;

李宏儒 ;

牛海涛 .

中国专利 :CN204902814U ,2015-12-23

[10]

FZ单晶硅抛光片加工清洗装置及清洗方法 [P].

陈凯 .

中国专利 :CN118950587A ,2024-11-15

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