化学汽相淀积生成TiN阻挡层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02137189.X

申请日：

2002-09-27

公开(公告)号：

CN1222014C

公开(公告)日：

2003-04-30

发明(设计)人：

徐小诚缪炳有

申请人：

申请人地址：

200020上海市淮海中路918号18楼

IPC主分类号：

H01L21108

IPC分类号：

H01L2131 H01L21471 C23C1634

代理机构：

上海正旦专利代理有限公司

代理人：

陶金龙;陆飞

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101633280737 IPC(主分类):H01L 21/108 专利号:ZL02137189X 申请日:20020927 授权公告日:20051005 终止日期:20140927
2003-04-30	公开	公开
2006-10-25	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:上海华虹（集团）有限公司变更后权利人:上海华虹（集团）有限公司变更事项:地址变更前权利人:200020上海市淮海中路918号18楼变更后权利人:201203上海市浦东新区张江高科技园区碧波路177号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:上海集成电路研发中心有限公司登记生效日:20060922
2005-10-05	授权	授权
2003-08-06	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

扩散阻挡层的淀积方法 [P].

阿加伊·加因 ;

伊利沙白·威茨曼 .

中国专利 :CN1195188A ,1998-10-07

[2]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

北原宏一 ;

高松勇吉 ;

森勇次 .

中国专利 :CN1316546A ,2001-10-10

[3]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

王宏兴 ;

小宫由直 ;

吴羽羚儿 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1392595A ,2003-01-22

[4]

采用含钛有机金属材料的化学汽相淀积含硅氮化钛的工艺 [P].

徐小诚 ;

缪炳有 .

中国专利 :CN1425797A ,2003-06-25

[5]

化学汽相淀积装置 [P].

高山徹 ;

犬岛 ;

尾高政一 ;

林茂则 ;

広濑直樹 .

中国专利 :CN87106283A ,1988-03-23

[6]

化学汽相淀积装置的净化方法 [P].

长谷川博之 ;

山冈智则 ;

石原良夫 ;

增崎宏 ;

佐藤贵之 ;

铃木克昌 ;

德永裕树 .

中国专利 :CN1497061A ,2004-05-19

[7]

垂直化学汽相淀积装置 [P].

陈聪茂 .

中国专利 :CN201501927U ,2010-06-09

[8]

化学汽相淀积稀土掺杂的半导体层 [P].

大卫·B·彼迟 .

中国专利 :CN1117389C ,2000-06-07

[9]

淀积碳的微波增强化学汽相淀积(CVD)方法 [P].

山崎舜平 .

中国专利 :CN88101061A ,1988-09-07

[10]

大气压化学汽相淀积 [P].

N·W·约翰斯顿 ;

K·R·科尔曼约斯 ;

N·A·赖特 .

中国专利 :CN101432458A ,2009-05-13

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