高纯度钛锭、其制造方法及钛溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380009260.9

申请日：

2013-02-13

公开(公告)号：

CN104114303A

公开(公告)日：

2014-10-22

发明(设计)人：

八木和人日野英治新藤裕一朗

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B22D2106

IPC分类号：

C22B922 C22B3412 C22C102 C22C1400 C23C1434

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-21	授权	授权
2017-05-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101751183704 IPC(主分类):B22D 21/06 专利号:ZL2013800092609 变更事项:专利权人变更前:吉坤日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京
2014-10-22	公开	公开
2014-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101588953151 IPC(主分类):B22D 21/06 专利申请号:2013800092609 申请日:20130213

共 50 条

[1]

高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统 [P].

陈箫箫 ;

林胜乐 ;

高利 .

中国专利 :CN113275589B ,2024-01-23

[2]

高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统 [P].

陈箫箫 ;

林胜乐 ;

高利 .

中国专利 :CN113275589A ,2021-08-20

[3]

高纯度Ni溅射靶及其制造方法 [P].

中岛信昭 ;

小松透 ;

佐野孝 .

中国专利 :CN103459657A ,2013-12-18

[4]

高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶、该溅射靶的制造方法及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜 [P].

福岛笃志 ;

新藤裕一朗 ;

岛本晋 .

中国专利 :CN102165093A ,2011-08-24

[5]

一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法 [P].

雷雨婷 .

中国专利 :CN109778123A ,2019-05-21

[6]

含钛溅射靶的制造方法 [P].

高桥一寿 ;

新田纯一 .

中国专利 :CN102597301A ,2012-07-18

[7]

高纯度铜溅射靶 [P].

冈部岳夫 ;

大月富男 ;

渡边茂 .

中国专利 :CN104053814A ,2014-09-17

[8]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN103797152A ,2014-05-14

[9]

高纯度铜溅射靶材 [P].

森晓 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

菊池文武 ;

荒井公 .

中国专利 :CN107923034A ,2018-04-17

[10]

高纯度铜溅射靶用铜原材料及高纯度铜溅射靶 [P].

樱井晶 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

熊谷训 .

中国专利 :CN105339527A ,2016-02-17

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