一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711104278.3

申请日：

2017-11-10

公开(公告)号：

CN109778123A

公开(公告)日：

2019-05-21

发明(设计)人：

雷雨婷

申请人：

申请人地址：

710000 陕西省西安市户县玉蝉乡太平村四组

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22B3412

代理机构：

代理人：

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-20	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 14/34 申请公布日:20190521
2019-05-21	公开	公开

共 50 条

[1]

一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 [P].

黄海广 ;

曹占元 ;

李志敏 ;

史亚鸣 ;

黄晓慧 ;

王举 ;

李玉清 ;

陶虹 .

中国专利 :CN105154834A ,2015-12-16

[2]

一种高纯钼溅射靶材的制备方法 [P].

田长对 .

中国专利 :CN109811318A ,2019-05-28

[3]

高纯度铜溅射靶材 [P].

森晓 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

菊池文武 ;

荒井公 .

中国专利 :CN107923034A ,2018-04-17

[4]

高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统 [P].

陈箫箫 ;

林胜乐 ;

高利 .

中国专利 :CN113275589B ,2024-01-23

[5]

高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统 [P].

陈箫箫 ;

林胜乐 ;

高利 .

中国专利 :CN113275589A ,2021-08-20

[6]

一种高纯度金属溅射靶材冷却方法 [P].

唐智勇 ;

唐安泰 .

中国专利 :CN115125497A ,2022-09-30

[7]

高纯度钛锭、其制造方法及钛溅射靶 [P].

八木和人 ;

日野英治 ;

新藤裕一朗 .

中国专利 :CN104114303A ,2014-10-22

[8]

一种高纯度溅射靶材生产工艺 [P].

柴兴臣 ;

崔程明 ;

柴家栋 ;

李卫杰 ;

许亚洲 ;

姜键宁 ;

李建宗 ;

张庭杰 ;

李航杰 ;

宋超杰 ;

曹克道 ;

陈文斌 .

中国专利 :CN121046794A ,2025-12-02

[9]

溅射靶材及溅射靶材的制造方法 [P].

黑田稔显 ;

柴田宪治 ;

渡边和俊 ;

岩谷幸作 .

日本专利 :CN119731367A ,2025-03-28

[10]

一种高纯钛溅射靶材的制备方法 [P].

王旭彪 ;

吴金平 ;

刘承泽 ;

王作华 ;

刘未 .

中国专利 :CN120138584B ,2025-08-12

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