高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110553332.2

申请日：

2021-05-20

公开(公告)号：

CN113275589A

公开(公告)日：

2021-08-20

发明(设计)人：

陈箫箫林胜乐高利

申请人：

申请人地址：

213000 江苏省常州市天宁区青洋北路143号创业服务中心内

IPC主分类号：

B22F930

IPC分类号：

B22F100 C23C1434 C23C1614

代理机构：

常州市权航专利代理有限公司 32280

代理人：

赵慧

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-20	公开	公开
2021-09-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B22F 9/30 申请日:20210520

共 50 条

[1]

高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统 [P].

陈箫箫 ;

林胜乐 ;

高利 .

中国专利 :CN113275589B ,2024-01-23

[2]

溅射靶材用钨钛合金板的制备方法 [P].

丁旭 ;

白锋 ;

李文超 ;

侯军涛 ;

黄先明 ;

郭让民 .

中国专利 :CN102002605A ,2011-04-06

[3]

一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法 [P].

雷雨婷 .

中国专利 :CN109778123A ,2019-05-21

[4]

铬钽钛合金溅射靶材的制备方法、铬钽钛合金溅射靶材及应用 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

吴东青 .

中国专利 :CN108580905A ,2018-09-28

[5]

半导体及太阳能溅射靶材行业用钨钛合金靶材的制备方法 [P].

于洋 ;

赖亚洲 ;

庄志刚 ;

杨福民 ;

郑艾龙 ;

石涛 .

中国专利 :CN102211188B ,2011-10-12

[6]

高纯度钛锭、其制造方法及钛溅射靶 [P].

八木和人 ;

日野英治 ;

新藤裕一朗 .

中国专利 :CN104114303A ,2014-10-22

[7]

高纯度铜或高纯度铜合金溅射靶、该溅射靶的制造方法及高纯度铜或高纯度铜合金溅射膜 [P].

福岛笃志 ;

新藤裕一朗 ;

岛本晋 .

中国专利 :CN102165093A ,2011-08-24

[8]

大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材及其制备工艺 [P].

徐从康 ;

马赛 ;

贺涛 ;

陈箫箫 .

中国专利 :CN114525485A ,2022-05-24

[9]

铬‑钛合金溅射靶材及其制造方法 [P].

坂巻功一 ;

福冈淳 ;

斉藤和也 .

中国专利 :CN107208259A ,2017-09-26

[10]

一种高纯度的钨钛合金靶材的制备方法 [P].

曲选辉 ;

李星宇 ;

章林 ;

熊宁 ;

刘国辉 ;

秦明礼 ;

陈刚 ;

张百成 ;

王广达 ;

魏子晨 ;

阙忠游 ;

杨军军 .

中国专利 :CN114619038A ,2022-06-14

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