一种半导体晶圆表面处理装置及处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110176974.5
申请日
2021-02-07
公开(公告)号
CN112894515A
公开(公告)日
2021-06-04
发明(设计)人
不公告发明人
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市宝安区新安街道68区留仙三路汇聚创新园北侧一楼
IPC主分类号
B24B722
IPC分类号
B24B5506 B24B4106 B24B4712 H01L21304
代理机构
深圳市国亨知识产权代理事务所(普通合伙) 44733
代理人
李夏宏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体晶圆处理装置及半导体晶圆处理方法 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN109755152B ,2019-05-14
[2]
一种半导体晶圆表面处理装置 [P]. 
李健儿 ;
李学良 ;
冯永 ;
马晓洁 ;
唐毅 ;
敬毅 ;
谢雷 .
中国专利 :CN113262956A ,2021-08-17
[3]
半导体处理装置及处理半导体晶圆的方法 [P]. 
罗兴安 .
中国专利 :CN103871815A ,2014-06-18
[4]
半导体晶圆处理装置 [P]. 
谢静超 ;
李阳 ;
刘雪莉 .
中国专利 :CN221079972U ,2024-06-04
[5]
一种半导体晶圆用切割钢丝表面处理装置 [P]. 
徐玉杰 ;
倪自飞 ;
黄河 ;
周颖楠 ;
任智伟 ;
蒋振伟 ;
张雨豪 ;
俞叔牙 ;
朱国柱 .
中国专利 :CN216138697U ,2022-03-29
[6]
一种半导体晶圆用切割钢丝表面处理装置 [P]. 
徐玉杰 ;
倪自飞 ;
黄河 ;
周颖楠 ;
任智伟 ;
蒋振伟 ;
张雨豪 ;
俞叔牙 ;
朱国柱 .
中国专利 :CN113400170A ,2021-09-17
[7]
一种半导体晶圆的表面处理方法 [P]. 
李司元 ;
颜维成 ;
江富杰 .
中国专利 :CN107749392A ,2018-03-02
[8]
一种半导体晶圆表面预处理装置 [P]. 
郑涛 ;
孙富成 .
中国专利 :CN221149957U ,2024-06-14
[9]
一种半导体晶圆表面预处理装置 [P]. 
许志勇 ;
李子贤 .
中国专利 :CN120221461A ,2025-06-27
[10]
半导体晶圆的连续处理装置及方法 [P]. 
李元求 ;
徐现模 ;
安贤焕 ;
柳守烈 ;
崔宇鎭 .
中国专利 :CN104919583A ,2015-09-16