一种湿法硅片清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610464167.2

申请日：

2016-06-23

公开(公告)号：

CN105914137B

公开(公告)日：

2016-08-31

发明(设计)人：

吕耀安

申请人：

申请人地址：

102600 北京市大兴区乐园路4号院2号楼3层1单元317

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

B08B304 B08B308 B08B310

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101680682089 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2016104641672 申请日:20160623
2018-09-11	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20180823 变更事项:申请人变更前权利人:无锡宏纳科技有限公司变更后权利人:北京知投家知识产权运营有限公司变更事项:地址变更前权利人:214000 江苏省无锡市新区清源路20号太湖国际科技园传感网大学科技园立业楼D区一楼变更后权利人:102600 北京市大兴区乐园路4号院2号楼3层1单元317
2020-12-08	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20201125 变更事项:专利权人变更前权利人:天津市雷升科技有限公司变更后权利人:安徽立查信息科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:301799 天津市武清区武清开发区畅源道国际企业社区H2号楼602室变更后权利人:233000 安徽省蚌埠市禹会区长青乡六公里花苑商业2号楼11号北102室
2019-12-13	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20191125 变更事项:专利权人变更前权利人:北京知投家知识产权运营有限公司变更后权利人:天津市雷升科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:102600 北京市大兴区乐园路4号院2号楼3层1单元317 变更后权利人:301799 天津市武清区武清开发区畅源道国际企业社区H2号楼602室
2016-08-31	公开	公开
2019-07-26	授权	授权

共 50 条

[1]

一种硅片清洗液及硅片清洗方法 [P].

刘长明 ;

金井升 ;

张昕宇 ;

金浩 .

中国专利 :CN108384667A ,2018-08-10

[2]

一种硅片的清洗方法 [P].

侯玥玥 ;

黄纪德 ;

金井升 ;

张昕宇 ;

金浩 .

中国专利 :CN108039315A ,2018-05-15

[3]

一种硅片清洗剂及硅片清洗方法 [P].

张震华 ;

吴孟强 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN105505643A ,2016-04-20

[4]

硅片的清洗方法 [P].

雷丰泉 .

中国专利 :CN106653560B ,2017-05-10

[5]

硅片清洗液及其清洗方法 [P].

李杰 .

中国专利 :CN101503650A ,2009-08-12

[6]

一种硅片清洗装置、硅片清洗方法以及硅片存放车 [P].

赵晟佑 .

中国专利 :CN110479685A ,2019-11-22

[7]

一种电子硅片的清洗方法 [P].

蒋俊 .

中国专利 :CN105405743A ,2016-03-16

[8]

半导体硅片的清洗方法 [P].

李容军 .

中国专利 :CN109841496A ,2019-06-04

[9]

一种湿法清洗工艺 [P].

唐斌 .

中国专利 :CN113690131A ,2021-11-23

[10]

一种硅片清洗方法 [P].

王偲偲 .

中国专利 :CN110880449B ,2020-03-13

← 1 2 3 4 5 →