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半导体结构及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200880015898.2
申请日
:
2008-06-25
公开(公告)号
:
CN101681934B
公开(公告)日
:
2010-03-24
发明(设计)人
:
E·E·叶舒恩
J·B·约翰逊
R·A·费尔普斯
R·M·拉塞尔
M·L·齐拉克
申请人
:
申请人地址
:
美国纽约
IPC主分类号
:
H01L2980
IPC分类号
:
H01L21338
H01L29812
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
于静;杨晓光
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-07-06
授权
授权
2010-03-24
公开
公开
2010-05-05
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001462370 IPC(主分类):H01L 29/80 专利申请号:2008800158982 申请日:20080625
共 50 条
[1]
半导体结构及其制造方法
[P].
萧孟轩
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0
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萧孟轩
;
陈维宁
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陈维宁
;
李东颖
论文数:
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李东颖
.
中国专利
:CN109728093A
,2019-05-07
[2]
半导体结构及其制造方法
[P].
庄其毅
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庄其毅
;
蔡庆威
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蔡庆威
;
程冠伦
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程冠伦
;
王志豪
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王志豪
.
中国专利
:CN111244159A
,2020-06-05
[3]
半导体结构及其制造方法
[P].
亚历克斯·卡尔尼茨基
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亚历克斯·卡尔尼茨基
;
段孝勤
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段孝勤
;
黄士芬
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黄士芬
;
郑新立
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郑新立
;
徐英杰
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徐英杰
.
中国专利
:CN105047627A
,2015-11-11
[4]
半导体结构及其制造方法
[P].
庄其毅
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄其毅
;
蔡庆威
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡庆威
;
程冠伦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程冠伦
;
王志豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
.
中国专利
:CN120456591A
,2025-08-08
[5]
半导体结构及其制造方法
[P].
斯蒂芬·H.·沃尔德曼
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斯蒂芬·H.·沃尔德曼
;
罗伯特·M.·拉塞尔
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罗伯特·M.·拉塞尔
;
布拉德利·A.·奥纳
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布拉德利·A.·奥纳
;
戴维·C.·谢里丹
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戴维·C.·谢里丹
.
中国专利
:CN101257039A
,2008-09-03
[6]
半导体结构、半导体器件及其制造方法
[P].
沙哈吉·B·摩尔
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沙哈吉·B·摩尔
;
李承翰
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李承翰
.
中国专利
:CN115132661A
,2022-09-30
[7]
半导体结构及其制造方法
[P].
吕相钦
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吕相钦
;
吴建志
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吴建志
;
杨哲勋
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杨哲勋
;
陈鸿文
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陈鸿文
.
中国专利
:CN107017301A
,2017-08-04
[8]
半导体结构及其制造方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
吴彬能
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吴彬能
;
肖卫平
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肖卫平
;
吴昊
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吴昊
;
梁擎擎
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梁擎擎
.
中国专利
:CN102593172B
,2012-07-18
[9]
半导体结构及其制造方法
[P].
H·L·霍
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H·L·霍
;
J·A·曼德尔曼
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J·A·曼德尔曼
;
D·M·多布金斯基
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D·M·多布金斯基
;
Y·奥塔尼
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Y·奥塔尼
.
中国专利
:CN1976045A
,2007-06-06
[10]
半导体结构及其制造方法
[P].
程慷果
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程慷果
;
M·D·纳伊姆
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M·D·纳伊姆
;
D·M·多布金斯基
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D·M·多布金斯基
;
B·Y·金
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B·Y·金
.
中国专利
:CN101399275A
,2009-04-01
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