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一种原子层沉积装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202022358707.3
申请日
:
2020-10-21
公开(公告)号
:
CN213596393U
公开(公告)日
:
2021-07-02
发明(设计)人
:
徐志斌
马骏
祝晓钊
冯敏强
廖良生
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道1198号
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
C23C16458
C23C1644
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
胡彬
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-07-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种原子层沉积装置及原子层沉积方法
[P].
徐志斌
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
徐志斌
;
马骏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马骏
;
祝晓钊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
祝晓钊
;
冯敏强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冯敏强
;
廖良生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
廖良生
.
中国专利
:CN112176321A
,2021-01-05
[2]
一种原子层沉积装置及原子层沉积方法
[P].
徐志斌
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
徐志斌
;
马骏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
马骏
;
祝晓钊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
祝晓钊
;
冯敏强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
冯敏强
;
廖良生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
廖良生
.
中国专利
:CN112176321B
,2025-01-14
[3]
一种原子层沉积装置及原子层沉积设备
[P].
李哲峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李哲峰
;
乌磊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
乌磊
.
中国专利
:CN212335291U
,2021-01-12
[4]
原子层沉积装置及原子层沉积方法
[P].
刘良文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
刘良文
;
闫晓晖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
闫晓晖
;
拉海忠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
拉海忠
.
中国专利
:CN119800330A
,2025-04-11
[5]
原子层沉积装置及原子层沉积方法
[P].
郭世根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
郭世根
;
项金娟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
项金娟
;
刘青
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
刘青
.
中国专利
:CN114351116B
,2024-12-31
[6]
原子层沉积装置及原子层沉积方法
[P].
郭世根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郭世根
;
项金娟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
项金娟
;
刘青
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘青
.
中国专利
:CN114351116A
,2022-04-15
[7]
一种原子层沉积腔室及原子层沉积装置
[P].
朱颖晖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朱颖晖
;
祝晓钊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
祝晓钊
;
王艳华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王艳华
;
冯敏强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冯敏强
;
廖良生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
廖良生
.
中国专利
:CN213895992U
,2021-08-06
[8]
一种原子层沉积装置
[P].
应世强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
应世强
;
应佳根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
应佳根
.
中国专利
:CN216274363U
,2022-04-12
[9]
原子层沉积装置
[P].
李哲峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李哲峰
;
张光海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张光海
.
中国专利
:CN212335292U
,2021-01-12
[10]
原子层沉积装置
[P].
杨士逸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
奥恒科技股份有限公司
奥恒科技股份有限公司
杨士逸
.
中国专利
:CN221398037U
,2024-07-23
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