金属氧化物半导体器件栅极的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200610118838.6
申请日
2006-11-28
公开(公告)号
CN101192525A
公开(公告)日
2008-06-04
发明(设计)人
张海洋 马擎天 陈海华
申请人
申请人地址
201203上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
H01L21336
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人
逯长明
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
张海洋 ;
刘乒 ;
马擎天 .
中国专利 :CN100468635C ,2008-03-12
[2]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
吴汉明 .
中国专利 :CN101197286A ,2008-06-11
[3]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
徐秋霞 ;
胡正明 ;
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[4]
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[5]
金属氧化物半导体器件制作方法和金属氧化物半导体器件 [P]. 
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[6]
金属氧化物半导体器件栅极结构的形成方法 [P]. 
张海洋 ;
刘乒 ;
马擎天 ;
陈海华 .
中国专利 :CN100468636C ,2008-03-12
[7]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
朱峰 ;
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陈海华 ;
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[8]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
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[9]
横向扩散金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
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[10]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
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