药液供给装置、基板处理装置、药液供给方法、以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810842099.8

申请日：

2018-07-27

公开(公告)号：

CN109411387B

公开(公告)日：

2019-03-01

发明(设计)人：

樋口鲇美藤田惠理岩畑翔太尾辻正幸藤谷佳礼

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

张敬强;李平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180727
2022-03-25	授权	授权
2019-03-01	公开	公开

共 50 条

[1]

药液供给装置以及药液供给方法 [P].

武石敏男 .

中国专利 :CN102576660B ,2012-07-11

[2]

药液供给装置以及药液供给方法 [P].

矢岛丈夫 .

中国专利 :CN1509199A ,2004-06-30

[3]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

中国专利 :CN111788660A ,2020-10-16

[4]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

岩畑翔太 ;

樋口鲇美 ;

藤田惠理 ;

藤谷佳礼 ;

真野雅子 ;

竹松佑介 ;

奥谷洋介 .

中国专利 :CN109712910A ,2019-05-03

[5]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

日本专利 :CN111788660B ,2024-09-20

[6]

基板处理装置、供给系统、基板处理方法以及供给方法 [P].

八谷洋介 ;

菅野至 ;

中森光则 ;

竹口博史 .

日本专利 :CN117497448A ,2024-02-02

[7]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

太田乔 .

中国专利 :CN110114858A ,2019-08-09

[8]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

井上正史 .

中国专利 :CN108630571A ,2018-10-09

[9]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

谷泽成规 ;

新庄淳一 ;

山本哲也 .

中国专利 :CN108511366A ,2018-09-07

[10]

清洗药液供给装置以及清洗药液供给方法 [P].

豊増富士彦 ;

国泽淳次 .

中国专利 :CN114570261A ,2022-06-03

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