用于集成电路的衬底及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010574562.9
申请日
2010-11-30
公开(公告)号
CN102479742A
公开(公告)日
2012-05-30
发明(设计)人
钟汇才 梁擎擎 尹海洲 骆志炯
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
H01L21762
IPC分类号
H01L2102 H01L2906
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
李娜;王洪斌
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
集成电路及其形成方法 [P]. 
陈奕寰 ;
周建志 ;
亚历山大·卡尔尼斯基 ;
郑光茗 .
中国专利 :CN112018069B ,2020-12-01
[2]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
陈能国 ;
蔡正原 ;
曾国华 .
中国专利 :CN101840888A ,2010-09-22
[3]
集成电路及其形成方法 [P]. 
庄学理 ;
刘铭棋 ;
刘世昌 .
中国专利 :CN111435662A ,2020-07-21
[4]
集成电路及其形成方法 [P]. 
王柏钧 ;
江庭玮 ;
赖志明 ;
庄惠中 ;
杨荣展 ;
刘如淦 ;
周雅琪 ;
林义雄 ;
黄禹轩 ;
张玉容 ;
吴国晖 ;
张世明 .
中国专利 :CN109920788A ,2019-06-21
[5]
集成电路器件及其形成方法 [P]. 
江国诚 ;
朱熙宁 ;
程冠伦 ;
王志豪 .
中国专利 :CN110729244A ,2020-01-24
[6]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
林孟汉 ;
张盟昇 .
中国专利 :CN114843264A ,2022-08-02
[7]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
刘重希 ;
余振华 ;
米玉杰 ;
孙元成 .
中国专利 :CN101241897A ,2008-08-13
[8]
集成电路器件及其形成方法 [P]. 
许智育 ;
陈建豪 ;
陈嘉伟 ;
廖善美 ;
陈蕙祺 ;
梁育嘉 ;
林士豪 ;
林揆伦 ;
游国丰 ;
杨丰诚 ;
陈燕铭 .
中国专利 :CN113053882B ,2025-03-25
[9]
集成电路结构及其形成方法 [P]. 
杨岱宜 ;
廖御杰 ;
吴佳典 ;
陈欣苹 ;
陈海清 ;
眭晓林 .
中国专利 :CN110957268A ,2020-04-03
[10]
集成电路器件及其形成方法 [P]. 
许智育 ;
陈建豪 ;
陈嘉伟 ;
廖善美 ;
陈蕙祺 ;
梁育嘉 ;
林士豪 ;
林揆伦 ;
游国丰 ;
杨丰诚 ;
陈燕铭 .
中国专利 :CN113053882A ,2021-06-29