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一种硅片处理装置和处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910795184.8
申请日：
2019-08-27
公开(公告)号：
CN110544654B
公开(公告)日：
2019-12-06
发明(设计)人：
张少飞
申请人：
申请人地址：
710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21687
H01L2102
代理机构：
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人：
许静;胡影
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-12-06 | 公开 | 公开 |
| 2019-12-31 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190827 |
| 2022-04-15 | 授权 | 授权 |
| 2021-11-09 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/67 登记生效日:20211027 变更事项:申请人 变更前权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司 变更后权利人:西安奕斯伟材料科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室 变更后权利人:710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 变更事项:申请人 变更后权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司 |