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蒸发源装置和蒸镀装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811070878.7
申请日
:
2018-09-14
公开(公告)号
:
CN109913818A
公开(公告)日
:
2019-06-21
发明(设计)人
:
风间良秋
近藤喜成
申请人
:
申请人地址
:
日本新泻县
IPC主分类号
:
C23C1424
IPC分类号
:
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
:
刘杨
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-06-21
公开
公开
2020-12-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/24 申请日:20180914
共 50 条
[1]
蒸发源及蒸镀装置
[P].
姜亮
论文数:
0
引用数:
0
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0
姜亮
.
中国专利
:CN104060227A
,2014-09-24
[2]
蒸发源及蒸镀装置
[P].
峰川英明
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0
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峰川英明
;
松浦宏育
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松浦宏育
;
矢崎秋夫
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矢崎秋夫
;
福田浩
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福田浩
;
三宅龙也
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三宅龙也
.
中国专利
:CN102676999A
,2012-09-19
[3]
蒸镀装置和该蒸镀装置所用的蒸发源
[P].
楠敏明
论文数:
0
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楠敏明
;
山本健一
论文数:
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山本健一
;
玉腰武司
论文数:
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玉腰武司
;
三宅龙也
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三宅龙也
;
松浦宏育
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松浦宏育
;
矢崎秋夫
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矢崎秋夫
;
尾方智彦
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尾方智彦
;
松崎永二
论文数:
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松崎永二
.
中国专利
:CN103938162A
,2014-07-23
[4]
蒸发源装置、蒸镀装置及蒸镀系统
[P].
菅原由季
论文数:
0
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0
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菅原由季
.
中国专利
:CN110541146A
,2019-12-06
[5]
线性蒸发源、蒸发源系统及蒸镀装置
[P].
王卫卫
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王卫卫
;
李俊峰
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李俊峰
;
何麟
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何麟
.
中国专利
:CN108754448A
,2018-11-06
[6]
蒸发源喷嘴、蒸发源装置及蒸镀设备
[P].
刘华猛
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
刘华猛
;
文官印
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
文官印
;
李彦松
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
李彦松
;
王蓓
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王蓓
;
王宇钊
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0
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机构:
京东方科技集团股份有限公司
京东方科技集团股份有限公司
王宇钊
.
中国专利
:CN118256879A
,2024-06-28
[7]
蒸发源装置及蒸镀设备
[P].
刘全宝
论文数:
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刘全宝
;
毋炳辉
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毋炳辉
;
金跃康
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金跃康
;
王传俊
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王传俊
;
高松
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高松
;
彭兆基
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0
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0
彭兆基
.
中国专利
:CN115011931A
,2022-09-06
[8]
蒸发源装置及蒸镀机
[P].
沐俊应
论文数:
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0
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沐俊应
.
中国专利
:CN107299321A
,2017-10-27
[9]
蒸镀用的蒸发源装置
[P].
余威
论文数:
0
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0
余威
.
中国专利
:CN107267919A
,2017-10-20
[10]
蒸发源及使用该蒸发源的蒸镀装置
[P].
林圣来
论文数:
0
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0
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0
林圣来
.
中国专利
:CN102031485A
,2011-04-27
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