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晶舟、扩散设备及半导体器件制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110600198.7
申请日
:
2021-05-31
公开(公告)号
:
CN113363190B
公开(公告)日
:
2021-09-07
发明(设计)人
:
梁兆龙
谷玲玲
任宏志
申请人
:
申请人地址
:
536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司16幢三楼301室
IPC主分类号
:
H01L21673
IPC分类号
:
H01L2102
H01L2166
H01L2167
代理机构
:
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240
代理人
:
邢涛
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-07
公开
公开
2022-07-08
授权
授权
2021-09-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/673 申请日:20210531
共 50 条
[1]
晶舟、扩散设备及半导体器件制造方法
[P].
蒋新和
论文数:
0
引用数:
0
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0
蒋新和
;
任宏志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
任宏志
.
中国专利
:CN113363191B
,2021-09-07
[2]
晶舟及扩散设备
[P].
蒋新和
论文数:
0
引用数:
0
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0
蒋新和
;
任宏志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
任宏志
.
中国专利
:CN113488382A
,2021-10-08
[3]
半导体器件热处理用晶片舟(扩散舟)
[P].
张彩根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张彩根
.
中国专利
:CN300973474D
,2009-08-05
[4]
晶舟及扩散设备
[P].
曲凯
论文数:
0
引用数:
0
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0
曲凯
;
史仁先
论文数:
0
引用数:
0
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0
史仁先
;
鲁艳春
论文数:
0
引用数:
0
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0
鲁艳春
.
中国专利
:CN218414513U
,2023-01-31
[5]
半导体器件、半导体器件设备及半导体器件的制造方法
[P].
重岁卓志
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
重岁卓志
.
日本专利
:CN118120055A
,2024-05-31
[6]
晶舟以及扩散设备
[P].
蒋新和
论文数:
0
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0
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0
蒋新和
;
任宏志
论文数:
0
引用数:
0
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0
任宏志
.
中国专利
:CN215220674U
,2021-12-17
[7]
半导体器件制造方法以及半导体器件制造设备
[P].
畠中正信
论文数:
0
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0
畠中正信
;
津曲加奈子
论文数:
0
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0
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0
津曲加奈子
;
石川道夫
论文数:
0
引用数:
0
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0
石川道夫
.
中国专利
:CN102290372A
,2011-12-21
[8]
半导体器件制造设备和半导体器件制造方法
[P].
上野和良
论文数:
0
引用数:
0
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0
上野和良
.
中国专利
:CN1144274C
,1999-09-29
[9]
半导体器件制造方法以及半导体器件制造设备
[P].
畠中正信
论文数:
0
引用数:
0
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0
畠中正信
;
津曲加奈子
论文数:
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引用数:
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津曲加奈子
;
石川道夫
论文数:
0
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0
h-index:
0
石川道夫
.
中国专利
:CN101627459A
,2010-01-13
[10]
半导体器件及半导体器件制造方法
[P].
黛哲
论文数:
0
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0
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0
黛哲
.
中国专利
:CN101996874B
,2011-03-30
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