曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机

被引：0

申请号：

CN202210785924.1

申请日：

2022-07-06

公开(公告)号：

CN114859675A

公开(公告)日：

2022-08-05

发明(设计)人：

季明华任新平黄早红

申请人：

申请人地址：

201306 上海市浦东新区中国上海市临港新片区层林路688号1号楼5楼

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F124

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

罗泳文

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20220706
2022-08-05	公开	公开

共 50 条

[1]

投影式光刻机三维掩模曝光方法 [P].

张俊 ;

陈勇辉 ;

杨志勇 .

中国专利 :CN102540747A ,2012-07-04

[2]

一种投影式光刻机的光源结构、投影式光刻机及光刻工艺 [P].

季明华 ;

任新平 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114839843A ,2022-08-02

[3]

投影式光刻机 [P].

陈福成 ;

朱骏 .

中国专利 :CN101458453A ,2009-06-17

[4]

投影式光刻机 [P].

陈福成 ;

王雷 .

中国专利 :CN101452212B ,2009-06-10

[5]

反射式光刻投影物镜 [P].

张品祥 ;

黄玲 .

中国专利 :CN103135356B ,2013-06-05

[6]

曝光投影物镜及光刻机 [P].

侯宝路 ;

于迪迪 ;

王进霞 ;

李运锋 .

中国专利 :CN118859456A ,2024-10-29

[7]

一种掩模版及光刻机 [P].

胡健 ;

徐阳 ;

周世均 ;

王晓龙 ;

郑海昌 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN114326291A ,2022-04-12

[8]

掩模版移动装置、光刻机及光刻方法 [P].

丁功明 .

中国专利 :CN110147032A ,2019-08-20

[9]

直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机 [P].

王超 ;

梅文辉 ;

赵美云 ;

邵德洋 .

中国专利 :CN119556532A ,2025-03-04

[10]

平面反射式复眼冷光源曝光系统及其光刻机 [P].

张岳方 .

中国专利 :CN101349814A ,2009-01-21

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