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一种光刻系统掩模成像方法、装置及系统
被引：0
申请号：
CN202211200847.5
申请日：
2022-09-29
公开(公告)号：
CN115390372A
公开(公告)日：
2022-11-25
发明(设计)人：
尉海清
柯贤华
申请人：
申请人地址：
430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区创业街海达创新广场写字楼2002
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267
代理人：
邓彦彦;廖盈春
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-11-25 | 公开 | 公开 |
| 2022-12-13 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20220929 |