一种便于清洁的半导体沉积设备结构

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专利类型
实用新型
申请号
CN201220437873.5
申请日
2012-08-30
公开(公告)号
CN202772119U
公开(公告)日
2013-03-06
发明(设计)人
许亮
申请人
申请人地址
100176 北京市大兴区经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
IPC主分类号
H01L21687
IPC分类号
代理机构
上海光华专利事务所 31219
代理人
李仪萍
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种便于半导体取出的半导体沉积设备 [P]. 
刘丹 ;
耿超 .
中国专利 :CN118692966B ,2024-12-24
[2]
一种便于半导体取出的半导体沉积设备 [P]. 
刘丹 ;
耿超 .
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[3]
一种便于清洁的半导体 [P]. 
王立祥 ;
阮同琴 .
中国专利 :CN217342441U ,2022-09-02
[4]
一种便于清洁的半导体 [P]. 
陈金松 .
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[5]
一种沉积设备、半导体沉积工艺及半导体结构 [P]. 
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[6]
便于调节间距的半导体沉积结构 [P]. 
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[7]
一种半导体沉积设备 [P]. 
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[8]
半导体沉积设备 [P]. 
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[9]
半导体沉积设备 [P]. 
归玉龙 .
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[10]
一种便于清洁的半导体制造设备 [P]. 
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