一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610417186.X

申请日：

2016-06-15

公开(公告)号：

CN106087066A

公开(公告)日：

2016-11-09

发明(设计)人：

吴敬军

申请人：

申请人地址：

065001 河北省廊坊市经济技术开发区景明道2号CEC廊坊工业园

IPC主分类号：

C30B3310

IPC分类号：

代理机构：

南京君陶专利商标代理有限公司 32215

代理人：

沈根水

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101690432180 IPC(主分类):C30B 33/10 专利申请号:201610417186X 申请日:20160615
2016-11-09	公开	公开
2019-11-29	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 33/10 申请公布日:20161109

共 50 条

[1]

改善钢管表面粗糙度的方法 [P].

曹献龙 ;

王焕新 ;

王世杰 .

中国专利 :CN111500963A ,2020-08-07

[2]

改善硅片表面粗糙度的工艺方法 [P].

蔡来强 .

中国专利 :CN120048724A ,2025-05-27

[3]

一种增加石英片表面刻蚀粗糙度的方法 [P].

谢常青 ;

付杰 ;

朱效立 ;

李海亮 ;

刘明 .

中国专利 :CN104176943A ,2014-12-03

[4]

一种改善激光剥离表面粗糙度的方法 [P].

李永超 ;

郑向光 ;

刘凯辉 ;

崔景光 .

中国专利 :CN119304375A ,2025-01-14

[5]

一种改善激光剥离表面粗糙度的方法 [P].

李永超 ;

郑向光 ;

刘凯辉 ;

崔景光 .

中国专利 :CN119304375B ,2025-03-28

[6]

改善晶片的表面粗糙度的工艺 [P].

E·内雷 ;

E·阿雷纳 ;

L·埃卡尔诺 .

中国专利 :CN1879204B ,2006-12-13

[7]

一种改善硅抛光片表面粗糙度的抛光方法 [P].

路一辰 ;

李俊峰 ;

潘紫龙 ;

王玥 ;

王新 .

中国专利 :CN112975578B ,2021-06-18

[8]

改善光刻胶表面粗糙度的方法 [P].

成智国 ;

耿文练 .

中国专利 :CN109062010A ,2018-12-21

[9]

改善铸件表面粗糙度的方法及系统 [P].

李旭 ;

王俊 .

中国专利 :CN112276800A ,2021-01-29

[10]

一种改善SiC精磨片表面粗糙度的方法 [P].

罗新羽 .

中国专利 :CN121021201A ,2025-11-28

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