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栅极再氧化方法及半导体结构的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200910199997.7
申请日：
2009-12-04
公开(公告)号：
CN102087966A
公开(公告)日：
2011-06-08
发明(设计)人：
何有丰
胡亚兰
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号：
H01L2128
IPC分类号：
H01L21283
H01L21336
H01L218238
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
李丽
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2015-11-11 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101723311638 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2009101999977 申请公布日:20110608 |
| 2011-07-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101089509527 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2009101999977 申请日:20091204 |
| 2012-12-12 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利申请权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101483562559 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2009101999977 变更事项:申请人 变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号 变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号 变更事项:申请人 变更前权利人:无 变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 登记生效日:20121109 |
| 2011-06-08 | 公开 | 公开 |