基板处理单元及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580013155.8

申请日：

2005-04-27

公开(公告)号：

CN1946486A

公开(公告)日：

2007-04-11

发明(设计)人：

胜冈诚司关本雅彦渡边辉行加藤亮横山俊夫铃木宪一小林贤一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05C906

IPC分类号：

B05B1512 B05C309 B05C1110 B05C1500 C23C1831 C25D1706 H01L2168

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

胡建新

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-04-11	公开	公开
2007-06-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-07	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

基板处理模块、基板处理装置以及基板处理单元 [P].

出口泰纪 .

日本专利 :CN118435322A ,2024-08-02

[2]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14

[3]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

日本专利 :CN110800087B ,2024-03-19

[4]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P].

火口友美 ;

鳅场真树 ;

胡铃达 ;

岩川裕 ;

藤原直树 ;

吉原直彦 .

日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28

[5]

支承单元、基板处理装置及基板处理方法 [P].

方济午 ;

徐庚进 ;

安迎曙 .

中国专利 :CN112750728A ,2021-05-04

[6]

支承单元、基板处理装置及基板处理方法 [P].

方济午 ;

徐庚进 ;

安迎曙 .

韩国专利 :CN112750728B ,2024-05-24

[7]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理液 [P].

塙洋祐 ;

春本晶子 ;

上田大 .

日本专利 :CN119585848A ,2025-03-07

[8]

基板处理液回收单元及具有该单元的基板处理装置 [P].

崔叡珍 ;

方炳善 ;

姜兑昊 ;

文钟元 .

中国专利 :CN114558821A ,2022-05-31

[9]

基板处理装置的供气单元及基板处理装置 [P].

孙亨圭 ;

李珍贤 .

中国专利 :CN111627830A ,2020-09-04

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

今冈裕一 ;

西部幸伸 .

中国专利 :CN106340473B ,2017-01-18

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