一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011488606.6

申请日：

2020-12-16

公开(公告)号：

CN112764320A

公开(公告)日：

2021-05-07

发明(设计)人：

赵圆圆段宣明董贤子郑美玲

申请人：

申请人地址：

510632 广东省广州市天河区黄埔大道西601号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司 44102

代理人：

张金福

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-07	公开	公开
2021-05-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20201216

共 50 条

[1]

一种直写曝光光刻系统 [P].

柯华恒 ;

黄燕燕 ;

王笑冰 ;

李洪江 ;

梁德文 .

中国专利 :CN114779587A ,2022-07-22

[2]

一种直写光刻机的曝光系统 [P].

张柯 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN112394619A ,2021-02-23

[3]

多排交叉布置DMD投影的激光直写双面曝光系统 [P].

张伟 ;

赵华 ;

徐巍 ;

王翰文 ;

马汝治 .

中国专利 :CN205608391U ,2016-09-28

[4]

光刻的曝光方法及曝光系统 [P].

张飞 .

中国专利 :CN101359181A ,2009-02-04

[5]

一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置 [P].

匡翠方 ;

王洪庆 ;

王子昂 ;

杨臻垚 ;

汤孟博 ;

詹兰馨 ;

张晓依 ;

温积森 ;

刘旭 .

中国专利 :CN113960891A ,2022-01-21

[6]

一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置 [P].

匡翠方 ;

王洪庆 ;

王子昂 ;

杨臻垚 ;

汤孟博 ;

詹兰馨 ;

张晓依 ;

温积森 ;

刘旭 .

中国专利 :CN113960891B ,2024-02-09

[7]

一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置 [P].

匡翠方 ;

王洪庆 ;

王子昂 ;

杨臻垚 ;

汤孟博 ;

詹兰馨 ;

张晓依 ;

温积森 ;

刘旭 .

中国专利 :CN113909698A ,2022-01-11

[8]

一种激光直写垂直双面曝光系统 [P].

赵华 ;

张伟 ;

陈旻峰 .

中国专利 :CN105068387A ,2015-11-18

[9]

一种基于多焦点可控的动态激光并行加工的方法 [P].

朱林伟 ;

周立强 ;

史强 .

中国专利 :CN113433803B ,2021-09-24

[10]

一种控制平台出板距离的激光直写曝光系统及曝光方法 [P].

肖燕青 ;

袁征 ;

陈海巍 ;

刘世林 ;

曾振军 ;

徐彦文 .

中国专利 :CN110850687A ,2020-02-28

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