抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010859849.X
申请日
2020-08-24
公开(公告)号
CN112445067A
公开(公告)日
2021-03-05
发明(设计)人
砂道智成 中川裕介 米村幸治 平野智之 齐藤彩
申请人
申请人地址
日本国神奈川县
IPC主分类号
G03F7004
IPC分类号
代理机构
上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291
代理人
陈亦欧;毛立群
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[21]
抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
平野智之 ;
米村幸治 ;
中川裕介 .
中国专利 :CN112987497A ,2021-06-18
[22]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
中村刚 .
中国专利 :CN112673316A ,2021-04-16
[23]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
中村刚 .
日本专利 :CN112673316B ,2024-01-23
[24]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
岩下勇介 ;
齐藤彩 ;
米村幸治 ;
中川裕介 .
日本专利 :CN119654597A ,2025-03-18
[25]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
平野智之 ;
平山文武 ;
野村架奈 ;
河野绅一 ;
中川裕介 .
中国专利 :CN112946998A ,2021-06-11
[26]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
高木大地 ;
中村刚 ;
板垣友祐 .
日本专利 :CN116745699B ,2024-03-22
[27]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
染谷康夫 ;
大星友希 .
日本专利 :CN120936951A ,2025-11-11
[28]
抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P]. 
藤崎真史 ;
土屋纯一 ;
远藤浩太朗 .
中国专利 :CN108693703B ,2018-10-23
[29]
抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P]. 
长峰高志 ;
中村刚 .
中国专利 :CN107844031A ,2018-03-27
[30]
正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P]. 
萩原三雄 ;
中绪卓 ;
新田和行 .
中国专利 :CN100410810C ,2005-02-02