抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010859849.X

申请日：

2020-08-24

公开(公告)号：

CN112445067A

公开(公告)日：

2021-03-05

发明(设计)人：

砂道智成中川裕介米村幸治平野智之齐藤彩

申请人：

申请人地址：

日本国神奈川县

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

代理机构：

上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291

代理人：

陈亦欧;毛立群

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-05	公开	公开
2022-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20200824

共 50 条

[41]

抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 [P].

解德升 ;

夏元玲 ;

刘敏 .

中国专利 :CN118795729A ,2024-10-18

[42]

正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

森尾公隆 ;

青木知三郎 ;

加藤哲也 ;

中岛哲矢 .

中国专利 :CN1324401C ,2004-09-01

[43]

负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

小竹正晃 ;

山田健司 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN107688278B ,2018-02-13

[44]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

草间理志 ;

大山皓介 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120779666A ,2025-10-14

[45]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

中川大树 ;

中岛浩光 ;

若松刚史 ;

原田健太郎 ;

西村幸生 ;

盐谷健夫 .

中国专利 :CN102109760A ,2011-06-29

[46]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

大山皓介 ;

草间理志 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN121115404A ,2025-12-12

[47]

正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 [P].

佐藤和史 ;

萩原三雄 ;

川名大助 .

中国专利 :CN100576076C ,2006-02-08

[48]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

志村英一 .

中国专利 :CN115087928A ,2022-09-20

[49]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

草间理志 ;

大山皓介 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120779665A ,2025-10-14

[50]

抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、化合物以及产酸剂 [P].

濑下武广 ;

内海义之 ;

川上晃也 ;

羽田英夫 ;

清水宏明 ;

中村刚 .

中国专利 :CN102344437B ,2012-02-08

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