烧结体、溅射靶和成型模及使用该成型模的烧结体的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680003795.5

申请日：

2006-01-27

公开(公告)号：

CN101111627B

公开(公告)日：

2008-01-23

发明(设计)人：

伊藤谦一召田雅实永山仁士涉田见哲夫八波俊祐

申请人：

申请人地址：

日本山口县

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C04B3500 B28B300 B22F302

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

段承恩;陈海红

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-23	公开	公开
2012-05-09	授权	授权
2008-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

氧化物烧结体、包含该烧结体的溅射靶、该烧结体的制造方法及该烧结体溅射靶的制造方法 [P].

佐藤和幸 ;

小井土由将 .

中国专利 :CN102089256A ,2011-06-08

[2]

烧结体、溅射靶及烧结体的制造方法 [P].

秀岛正章 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN110937891A ,2020-03-31

[3]

烧结体和包含该烧结体的溅射靶以及使用该溅射靶形成的薄膜 [P].

奈良淳史 .

中国专利 :CN107012435B ,2017-08-04

[4]

成型烧结体及成型烧结体的制造方法 [P].

井上泰德 ;

伊藤宗宣 ;

岸田和久 ;

细野秀雄 ;

北野政明 ;

横山寿治 .

中国专利 :CN113453799A ,2021-09-28

[5]

氧化镧基烧结体、包含该烧结体的溅射靶、氧化镧基烧结体的制造方法及通过该制造方法制造溅射靶的方法 [P].

佐藤和幸 ;

小井土由将 .

中国专利 :CN102089258A ,2011-06-08

[6]

氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶 [P].

笘井重和 ;

井上一吉 ;

江端一晃 ;

柴田雅敏 ;

宇都野太 ;

霍间勇辉 ;

石原悠 .

中国专利 :CN115340360A ,2022-11-15

[7]

氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶 [P].

笘井重和 ;

井上一吉 ;

江端一晃 ;

柴田雅敏 ;

宇都野太 ;

霍间勇辉 ;

石原悠 .

中国专利 :CN105873881A ,2016-08-17

[8]

烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法 [P].

田尾幸树 .

中国专利 :CN113649570A ,2021-11-16

[9]

烧结体、溅射靶及其制造方法 [P].

挂野崇 ;

梶山纯 .

中国专利 :CN107779821B ,2018-03-09

[10]

氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113423860A ,2021-09-21

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