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基于磁控溅射与蒸发的超薄薄膜双面镀膜方法及设备
被引:0
申请号
:
CN202210862534.X
申请日
:
2022-07-21
公开(公告)号
:
CN115369374A
公开(公告)日
:
2022-11-22
发明(设计)人
:
朱建明
申请人
:
申请人地址
:
526060 广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
IPC主分类号
:
C23C1456
IPC分类号
:
C23C1435
C23C1424
C23C1414
C23C1454
代理机构
:
广州蓝晟专利代理事务所(普通合伙) 44452
代理人
:
谢静娜
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-22
公开
公开
2022-12-09
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/56 申请日:20220721
共 50 条
[1]
超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置及方法
[P].
朱建明
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱建明
;
李金明
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0
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李金明
.
中国专利
:CN115110055A
,2022-09-27
[2]
一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构及镀膜设备和镀膜方法
[P].
朱建明
论文数:
0
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0
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0
朱建明
.
中国专利
:CN115449751A
,2022-12-09
[3]
磁控溅射镀膜设备及镀膜方法
[P].
李龙哲
论文数:
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0
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0
李龙哲
;
周征华
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0
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周征华
;
夏伟
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0
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夏伟
;
张亚芹
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0
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张亚芹
;
朱小凤
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0
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朱小凤
;
李花
论文数:
0
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0
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0
李花
.
中国专利
:CN113913768A
,2022-01-11
[4]
磁控溅射镀膜装置及镀膜方法
[P].
钟真武
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钟真武
;
于伟华
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于伟华
;
郄丽曼
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郄丽曼
.
中国专利
:CN103498128B
,2014-01-08
[5]
磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法
[P].
杨伟顺
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0
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杨伟顺
;
蒙峻
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蒙峻
;
蔺晓建
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蔺晓建
;
马向利
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马向利
;
张晓鹰
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张晓鹰
.
中国专利
:CN107794496A
,2018-03-13
[6]
一种超薄薄膜真空双面溅射装置
[P].
王振东
论文数:
0
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0
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0
王振东
.
中国专利
:CN216786245U
,2022-06-21
[7]
一种超薄薄膜真空双面溅射装置
[P].
王振东
论文数:
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0
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0
王振东
.
中国专利
:CN114481057A
,2022-05-13
[8]
复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法
[P].
杨恺
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0
杨恺
;
林海天
论文数:
0
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0
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林海天
;
李立升
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0
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0
李立升
.
中国专利
:CN114540779B
,2022-05-27
[9]
超薄柔性基材真空双面磁控溅射镀铜卷绕镀膜设备
[P].
罗志明
论文数:
0
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0
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0
罗志明
;
罗军文
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0
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罗军文
;
陸创程
论文数:
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0
陸创程
;
牛二辉
论文数:
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0
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牛二辉
;
李志荣
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0
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李志荣
.
中国专利
:CN218321595U
,2023-01-17
[10]
磁控溅射设备及镀膜方法
[P].
陆飞
论文数:
0
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0
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机构:
强一半导体(苏州)股份有限公司
强一半导体(苏州)股份有限公司
陆飞
;
于海超
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机构:
强一半导体(苏州)股份有限公司
强一半导体(苏州)股份有限公司
于海超
;
王艾琳
论文数:
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机构:
强一半导体(苏州)股份有限公司
强一半导体(苏州)股份有限公司
王艾琳
.
中国专利
:CN121023449A
,2025-11-28
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