基于磁控溅射与蒸发的超薄薄膜双面镀膜方法及设备

被引:0
申请号
CN202210862534.X
申请日
2022-07-21
公开(公告)号
CN115369374A
公开(公告)日
2022-11-22
发明(设计)人
朱建明
申请人
申请人地址
526060 广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
IPC主分类号
C23C1456
IPC分类号
C23C1435 C23C1424 C23C1414 C23C1454
代理机构
广州蓝晟专利代理事务所(普通合伙) 44452
代理人
谢静娜
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
超薄薄膜双面镀铜膜的卷绕式磁控溅射镀膜装置及方法 [P]. 
朱建明 ;
李金明 .
中国专利 :CN115110055A ,2022-09-27
[2]
一种超薄薄膜镀膜用的蒸发源机构及镀膜设备和镀膜方法 [P]. 
朱建明 .
中国专利 :CN115449751A ,2022-12-09
[3]
磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 [P]. 
李龙哲 ;
周征华 ;
夏伟 ;
张亚芹 ;
朱小凤 ;
李花 .
中国专利 :CN113913768A ,2022-01-11
[4]
磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 [P]. 
钟真武 ;
于伟华 ;
郄丽曼 .
中国专利 :CN103498128B ,2014-01-08
[5]
磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法 [P]. 
杨伟顺 ;
蒙峻 ;
蔺晓建 ;
马向利 ;
张晓鹰 .
中国专利 :CN107794496A ,2018-03-13
[6]
一种超薄薄膜真空双面溅射装置 [P]. 
王振东 .
中国专利 :CN216786245U ,2022-06-21
[7]
一种超薄薄膜真空双面溅射装置 [P]. 
王振东 .
中国专利 :CN114481057A ,2022-05-13
[8]
复合阴极、磁控溅射镀膜设备及镀膜方法 [P]. 
杨恺 ;
林海天 ;
李立升 .
中国专利 :CN114540779B ,2022-05-27
[9]
超薄柔性基材真空双面磁控溅射镀铜卷绕镀膜设备 [P]. 
罗志明 ;
罗军文 ;
陸创程 ;
牛二辉 ;
李志荣 .
中国专利 :CN218321595U ,2023-01-17
[10]
磁控溅射设备及镀膜方法 [P]. 
陆飞 ;
于海超 ;
王艾琳 .
中国专利 :CN121023449A ,2025-11-28