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等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110146665.X
申请日
:
2011-05-25
公开(公告)号
:
CN102262999A
公开(公告)日
:
2011-11-30
发明(设计)人
:
堀口将人
辻本宏
北泽贵
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-01-01
授权
授权
2012-01-11
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101169314274 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:201110146665X 申请日:20110525
2011-11-30
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
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花冈秀敏
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东京毅力科创株式会社
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花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
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松本直树
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舆水地盐
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舆水地盐
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舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN100446637C
,2006-10-04
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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塚原利也
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山边周平
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山边周平
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谷地晃汰
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谷地晃汰
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佐藤徹治
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佐藤徹治
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内田阳平
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内田阳平
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铃木步太
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铃木步太
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田村洋典
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田村洋典
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花冈秀敏
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花冈秀敏
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佐佐木淳一
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佐佐木淳一
.
中国专利
:CN111261511A
,2020-06-09
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
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中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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进藤崇央
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冈本清一
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冈本清一
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大友洋
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大友洋
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菊地贵伦
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菊地贵伦
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松土龙夫
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松土龙夫
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森田靖
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森田靖
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佐久间隆
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佐久间隆
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中国专利
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,2022-01-14
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
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冈本清一
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东京毅力科创株式会社
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冈本清一
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大友洋
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东京毅力科创株式会社
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大友洋
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菊地贵伦
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东京毅力科创株式会社
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菊地贵伦
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松土龙夫
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东京毅力科创株式会社
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松土龙夫
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森田靖
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[8]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法
[P].
齐藤均
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齐藤均
;
佐藤亮
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佐藤亮
.
中国专利
:CN101465283A
,2009-06-24
[9]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法
[P].
齐藤均
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齐藤均
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佐藤亮
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佐藤亮
.
中国专利
:CN101969016A
,2011-02-09
[10]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
安田健太
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安田健太
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久保田徹
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久保田徹
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近藤崇
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近藤崇
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石田胜广
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石田胜广
.
中国专利
:CN106104768B
,2016-11-09
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