等离子体处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110146665.X
申请日
2011-05-25
公开(公告)号
CN102262999A
公开(公告)日
2011-11-30
发明(设计)人
堀口将人 辻本宏 北泽贵
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
山泽阳平 .
中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
塚原利也 ;
山边周平 ;
谷地晃汰 ;
佐藤徹治 ;
内田阳平 ;
铃木步太 ;
田村洋典 ;
花冈秀敏 ;
佐佐木淳一 .
日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
松本直树 ;
舆水地盐 ;
舆石公 .
中国专利 :CN100446637C ,2006-10-04
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
塚原利也 ;
山边周平 ;
谷地晃汰 ;
佐藤徹治 ;
内田阳平 ;
铃木步太 ;
田村洋典 ;
花冈秀敏 ;
佐佐木淳一 .
中国专利 :CN111261511A ,2020-06-09
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 ;
山泽阳平 .
中国专利 :CN101847558B ,2010-09-29
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
进藤崇央 ;
冈本清一 ;
大友洋 ;
菊地贵伦 ;
松土龙夫 ;
森田靖 ;
佐久间隆 .
中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
进藤崇央 ;
冈本清一 ;
大友洋 ;
菊地贵伦 ;
松土龙夫 ;
森田靖 ;
佐久间隆 .
日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11
[8]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
齐藤均 ;
佐藤亮 .
中国专利 :CN101465283A ,2009-06-24
[9]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
齐藤均 ;
佐藤亮 .
中国专利 :CN101969016A ,2011-02-09
[10]
等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P]. 
安田健太 ;
久保田徹 ;
近藤崇 ;
石田胜广 .
中国专利 :CN106104768B ,2016-11-09