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干蚀刻装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202023337409.2
申请日：
2020-12-30
公开(公告)号：
CN213660361U
公开(公告)日：
2021-07-09
发明(设计)人：
彭军
欧凤
权亚平
叶明军
张洋铭
王运均
申请人：
申请人地址：
610200 四川省成都市双流区公兴街道青栏路1778号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
黄溪;刘芳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-07-09 | 授权 | 授权 |