干蚀刻装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322364602.2

申请日：

2023-08-31

公开(公告)号：

CN220672531U

公开(公告)日：

2024-03-26

发明(设计)人：

朱浩

申请人：

昆山龙腾光电股份有限公司

申请人地址：

215301 江苏省苏州市昆山开发区龙腾路1号

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01J37/32

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

唐晓晖

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-26	授权	授权

共 50 条

[1]

干蚀刻装置 [P].

彭军 ;

欧凤 ;

权亚平 ;

叶明军 ;

张洋铭 ;

王运均 .

中国专利 :CN213660361U ,2021-07-09

[2]

干蚀刻装置 [P].

周婷婷 .

中国专利 :CN218299746U ,2023-01-13

[3]

干蚀刻装置 [P].

朱健 ;

马涛 .

中国专利 :CN221947073U ,2024-11-01

[4]

干蚀刻机 [P].

朱麟 .

中国专利 :CN214378322U ,2021-10-08

[5]

干蚀刻装置及干蚀刻方法 [P].

及川弘太 .

中国专利 :CN1649105A ,2005-08-03

[6]

干蚀刻方法及干蚀刻装置 [P].

小藤直行 ;

桑原谦一 .

中国专利 :CN111801773A ,2020-10-20

[7]

蚀刻装置 [P].

林帅 ;

苏财钰 ;

张涛 ;

张彬彬 ;

苟先华 .

中国专利 :CN212934549U ,2021-04-09

[8]

干蚀刻装置 [P].

刘圣烈 ;

崔承镇 ;

宋泳锡 ;

董敏 .

中国专利 :CN101656192B ,2010-02-24

[9]

干蚀刻装置 [P].

崔钟龙 .

中国专利 :CN101620989B ,2010-01-06

[10]

干蚀刻装置 [P].

彭军 ;

欧凤 ;

权亚平 ;

叶明军 ;

张洋铭 ;

荣晓娇 ;

王运均 ;

谢超 .

中国专利 :CN215266202U ,2021-12-21

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