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基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710098856.0
申请日
:
2017-02-23
公开(公告)号
:
CN107230652A
公开(公告)日
:
2017-10-03
发明(设计)人
:
宫胜彦
申请人
:
申请人地址
:
日本京都府京都市
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2130
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
向勇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-10-03
公开
公开
2021-12-17
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20171003
2017-11-03
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170223
共 50 条
[1]
基板处理装置、基板处理系统和基板处理方法
[P].
刘福强
论文数:
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘福强
;
王嘉琪
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
王嘉琪
;
史霄
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
史霄
;
张康
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
张康
;
吴尚东
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
吴尚东
.
中国专利
:CN117650079A
,2024-03-05
[2]
基板处理装置、基板处理系统、及基板处理方法
[P].
小畠严贵
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小畠严贵
;
八木圭太
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八木圭太
;
盐川阳一
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盐川阳一
.
中国专利
:CN107851570A
,2018-03-27
[3]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法
[P].
岩田敬次
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
岩田敬次
;
森田明
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
森田明
;
高桥朋宏
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
高桥朋宏
;
枝光建治
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
枝光建治
;
杉冈真治
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
杉冈真治
.
日本专利
:CN112017997B
,2024-03-22
[4]
基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统
[P].
川端淳史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
川端淳史
;
宫川正章
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
宫川正章
;
齐翀
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐翀
.
日本专利
:CN120359596A
,2025-07-22
[5]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理系统
[P].
根本脩平
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
根本脩平
.
日本专利
:CN119816925A
,2025-04-11
[6]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法
[P].
岩田敬次
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岩田敬次
;
森田明
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森田明
;
高桥朋宏
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高桥朋宏
;
枝光建治
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枝光建治
;
杉冈真治
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杉冈真治
.
中国专利
:CN112017997A
,2020-12-01
[7]
基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法
[P].
小畠严贵
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小畠严贵
;
八木圭太
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八木圭太
;
渡边和英
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渡边和英
;
盐川阳一
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盐川阳一
;
丸山彻
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丸山彻
;
高桥信行
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高桥信行
.
中国专利
:CN106256016A
,2016-12-21
[8]
基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统
[P].
渡边敏史
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渡边敏史
;
山本晓
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山本晓
;
町田优
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町田优
.
中国专利
:CN108705383A
,2018-10-26
[9]
基板处理方法、基板处理系统及基板处理程序
[P].
贝濑精一
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贝濑精一
;
岩渕纪之
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岩渕纪之
;
加藤茂昭
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加藤茂昭
;
中村博
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中村博
;
横内健
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横内健
;
柴田真理子
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柴田真理子
;
小尾章
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小尾章
.
中国专利
:CN1779906A
,2006-05-31
[10]
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法
[P].
井上正史
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井上正史
;
田中孝佳
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田中孝佳
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岩田智巳
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岩田智巳
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谷口宽树
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谷口宽树
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新庄淳一
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新庄淳一
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高桥弘明
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高桥弘明
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樋口鲇美
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樋口鲇美
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大迹明
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大迹明
;
中野佑太
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中野佑太
.
中国专利
:CN108257891B
,2018-07-06
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