基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380085102.5

申请日：

2023-12-12

公开(公告)号：

CN120359596A

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

川端淳史宫川正章齐翀

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

H01L21/31

IPC分类号：

C23C14/12 C23C16/02 H01L21/683 H01L21/3065

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

李德安

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/31申请日:20231212
2025-07-22	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

宫胜彦 .

中国专利 :CN107230652A ,2017-10-03

[2]

基板处理装置、基板处理系统、及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

盐川阳一 .

中国专利 :CN107851570A ,2018-03-27

[3]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

岩田敬次 ;

森田明 ;

高桥朋宏 ;

枝光建治 ;

杉冈真治 .

日本专利 :CN112017997B ,2024-03-22

[4]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理系统 [P].

根本脩平 .

日本专利 :CN119816925A ,2025-04-11

[5]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

岩田敬次 ;

森田明 ;

高桥朋宏 ;

枝光建治 ;

杉冈真治 .

中国专利 :CN112017997A ,2020-12-01

[6]

基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法 [P].

小畠严贵 ;

八木圭太 ;

渡边和英 ;

盐川阳一 ;

丸山彻 ;

高桥信行 .

中国专利 :CN106256016A ,2016-12-21

[7]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统 [P].

渡边敏史 ;

山本晓 ;

町田优 .

中国专利 :CN108705383A ,2018-10-26

[8]

基板处理方法、基板处理系统及基板处理程序 [P].

贝濑精一 ;

岩渕纪之 ;

加藤茂昭 ;

中村博 ;

横内健 ;

柴田真理子 ;

小尾章 .

中国专利 :CN1779906A ,2006-05-31

[9]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

井上正史 ;

田中孝佳 ;

岩田智巳 ;

谷口宽树 ;

新庄淳一 ;

高桥弘明 ;

樋口鲇美 ;

大迹明 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257891B ,2018-07-06

[10]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统 [P].

井上正史 ;

泷昭彦 ;

谷口宽树 ;

田中孝佳 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257890B ,2018-07-06

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