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膜厚测定装置及膜厚测定方法
被引:0
申请号
:
CN202180013891.2
申请日
:
2021-02-09
公开(公告)号
:
CN115104000A
公开(公告)日
:
2022-09-23
发明(设计)人
:
中村共则
大塚贤一
荒野谕
土屋邦彦
申请人
:
申请人地址
:
日本静冈县
IPC主分类号
:
G01B1106
IPC分类号
:
G01J336
G01J900
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
杨琦
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-09-23
公开
公开
共 50 条
[1]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大冢贤一
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
森岛康太
论文数:
0
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
森岛康太
;
土屋邦彦
论文数:
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
;
高桥辉雄
论文数:
0
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0
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
高桥辉雄
.
日本专利
:CN120500609A
,2025-08-15
[2]
膜厚测定装置、膜厚测定系统及膜厚测定方法
[P].
青木诚志
论文数:
0
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0
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0
机构:
本田技研工业株式会社
本田技研工业株式会社
青木诚志
.
日本专利
:CN120721008A
,2025-09-30
[3]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大塚贤一
论文数:
0
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0
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0
大塚贤一
;
中野哲寿
论文数:
0
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中野哲寿
;
渡边元之
论文数:
0
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0
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0
渡边元之
.
中国专利
:CN102483320A
,2012-05-30
[4]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
土屋邦彦
论文数:
0
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0
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
;
荒野谕
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
荒野谕
;
大塚贤一
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0
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大塚贤一
.
日本专利
:CN117355724A
,2024-01-05
[5]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
黑川政秋
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0
黑川政秋
;
安井润
论文数:
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安井润
;
见持圭一
论文数:
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见持圭一
;
盐谷成敏
论文数:
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0
盐谷成敏
.
中国专利
:CN103765156B
,2014-04-30
[6]
膜厚测定装置及膜厚测定方法
[P].
大冢贤一
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
大冢贤一
;
森岛康太
论文数:
0
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机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
森岛康太
;
土屋邦彦
论文数:
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0
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0
机构:
浜松光子学株式会社
浜松光子学株式会社
土屋邦彦
.
日本专利
:CN120604098A
,2025-09-05
[7]
膜厚测定装置、膜厚测定方法及具有膜厚测定装置的研磨装置
[P].
野村季和
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0
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0
野村季和
;
饭泉健
论文数:
0
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饭泉健
;
渡边和英
论文数:
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渡边和英
;
小林洋一
论文数:
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小林洋一
.
中国专利
:CN104275640A
,2015-01-14
[8]
膜厚测定装置、膜厚测定方法及基板研磨装置
[P].
木下将毅
论文数:
0
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
木下将毅
;
八木圭太
论文数:
0
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
八木圭太
;
高桥太郎
论文数:
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高桥太郎
;
盐川阳一
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
盐川阳一
;
渡边夕贵
论文数:
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
渡边夕贵
.
日本专利
:CN118809424A
,2024-10-22
[9]
膜厚测定装置以及膜厚测定方法
[P].
山田健夫
论文数:
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山田健夫
;
山本猛
论文数:
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山本猛
;
山仓崇宽
论文数:
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山仓崇宽
;
林真治
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林真治
;
河合慎吾
论文数:
0
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0
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0
河合慎吾
.
中国专利
:CN101981406A
,2011-02-23
[10]
膜厚测定装置和膜厚测定方法
[P].
八寻俊一
论文数:
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八寻俊一
;
尾上幸太朗
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尾上幸太朗
;
田中茂喜
论文数:
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0
田中茂喜
.
中国专利
:CN106017337A
,2016-10-12
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