一种利于提高散热性的氮化镓外延生长方法

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申请号
CN202210100966.7
申请日
2022-01-27
公开(公告)号
CN114438595A
公开(公告)日
2022-05-06
发明(设计)人
孔玮 杨军 马亚庆
申请人
申请人地址
310000 浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号
IPC主分类号
C30B2940
IPC分类号
C30B2518
代理机构
成都行之智信知识产权代理有限公司 51256
代理人
李林
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
氮化镓薄膜及其远程外延生长方法 [P]. 
曹冰 ;
刘淼 ;
夏天 .
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[2]
一种氮化镓薄膜及准范德华外延氮化镓薄膜的生长方法 [P]. 
汪莱 ;
杨沛珑 ;
郝智彪 ;
罗毅 .
中国专利 :CN119530964A ,2025-02-28
[3]
一种氮化镓外延层的生长方法以及氮化镓外延层 [P]. 
王建峰 .
中国专利 :CN117832062A ,2024-04-05
[4]
一种氮化镓HEMT外延结构的生长方法 [P]. 
陈明 .
中国专利 :CN115548102A ,2022-12-30
[5]
一种提高P型氮化镓掺杂浓度的外延生长方法 [P]. 
胡丹 ;
缪炳有 ;
张汝京 ;
黄宏嘉 .
中国专利 :CN104241464B ,2014-12-24
[6]
一种氮化镓PIN结构的外延生长方法 [P]. 
尹宝堂 ;
姚青 ;
张容川 ;
朱静 ;
王伟华 .
中国专利 :CN112501689A ,2021-03-16
[7]
一种氮化镓量子阱的外延生长方法 [P]. 
尹宝堂 ;
王子懿 ;
林丰旭 ;
单娟 ;
田露 .
中国专利 :CN112349817B ,2021-02-09
[8]
氮化镓层及其同质外延生长方法 [P]. 
罗晓菊 ;
王颖慧 ;
特洛伊·乔纳森·贝克 .
中国专利 :CN112820633B ,2024-01-16
[9]
氮化镓层及其同质外延生长方法 [P]. 
罗晓菊 ;
王颖慧 ;
特洛伊·乔纳森·贝克 .
中国专利 :CN112820633A ,2021-05-18
[10]
一种提高发光效率的氮化镓基LED外延生长方法 [P]. 
郭丽彬 ;
牛勇 ;
李刚 ;
刘仁锁 .
中国专利 :CN103325896A ,2013-09-25