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一种利于提高散热性的氮化镓外延生长方法
被引:0
申请号
:
CN202210100966.7
申请日
:
2022-01-27
公开(公告)号
:
CN114438595A
公开(公告)日
:
2022-05-06
发明(设计)人
:
孔玮
杨军
马亚庆
申请人
:
申请人地址
:
310000 浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号
IPC主分类号
:
C30B2940
IPC分类号
:
C30B2518
代理机构
:
成都行之智信知识产权代理有限公司 51256
代理人
:
李林
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-06
公开
公开
2022-05-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/40 申请日:20220127
共 50 条
[1]
氮化镓薄膜及其远程外延生长方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
曹冰
;
论文数:
引用数:
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机构:
刘淼
;
论文数:
引用数:
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机构:
夏天
.
中国专利
:CN120738767A
,2025-10-03
[2]
一种氮化镓薄膜及准范德华外延氮化镓薄膜的生长方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
汪莱
;
论文数:
引用数:
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机构:
杨沛珑
;
论文数:
引用数:
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机构:
郝智彪
;
论文数:
引用数:
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机构:
罗毅
.
中国专利
:CN119530964A
,2025-02-28
[3]
一种氮化镓外延层的生长方法以及氮化镓外延层
[P].
王建峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州纳维科技有限公司
苏州纳维科技有限公司
王建峰
.
中国专利
:CN117832062A
,2024-04-05
[4]
一种氮化镓HEMT外延结构的生长方法
[P].
陈明
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈明
.
中国专利
:CN115548102A
,2022-12-30
[5]
一种提高P型氮化镓掺杂浓度的外延生长方法
[P].
胡丹
论文数:
0
引用数:
0
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0
胡丹
;
缪炳有
论文数:
0
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0
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0
缪炳有
;
张汝京
论文数:
0
引用数:
0
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0
张汝京
;
黄宏嘉
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄宏嘉
.
中国专利
:CN104241464B
,2014-12-24
[6]
一种氮化镓PIN结构的外延生长方法
[P].
尹宝堂
论文数:
0
引用数:
0
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0
尹宝堂
;
姚青
论文数:
0
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姚青
;
张容川
论文数:
0
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0
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0
张容川
;
朱静
论文数:
0
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0
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0
朱静
;
王伟华
论文数:
0
引用数:
0
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0
王伟华
.
中国专利
:CN112501689A
,2021-03-16
[7]
一种氮化镓量子阱的外延生长方法
[P].
尹宝堂
论文数:
0
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0
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0
尹宝堂
;
王子懿
论文数:
0
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0
王子懿
;
林丰旭
论文数:
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林丰旭
;
单娟
论文数:
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单娟
;
田露
论文数:
0
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0
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0
田露
.
中国专利
:CN112349817B
,2021-02-09
[8]
氮化镓层及其同质外延生长方法
[P].
罗晓菊
论文数:
0
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0
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0
机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
罗晓菊
;
王颖慧
论文数:
0
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0
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机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
特洛伊·乔纳森·贝克
.
中国专利
:CN112820633B
,2024-01-16
[9]
氮化镓层及其同质外延生长方法
[P].
罗晓菊
论文数:
0
引用数:
0
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0
罗晓菊
;
王颖慧
论文数:
0
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0
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王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
论文数:
0
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0
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特洛伊·乔纳森·贝克
.
中国专利
:CN112820633A
,2021-05-18
[10]
一种提高发光效率的氮化镓基LED外延生长方法
[P].
郭丽彬
论文数:
0
引用数:
0
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0
郭丽彬
;
牛勇
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0
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牛勇
;
李刚
论文数:
0
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0
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李刚
;
刘仁锁
论文数:
0
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0
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0
刘仁锁
.
中国专利
:CN103325896A
,2013-09-25
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