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硅化钨层的形成方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN02107970.6
申请日：
2002-03-22
公开(公告)号：
CN1377064A
公开(公告)日：
2002-10-30
发明(设计)人：
元济亨
申请人：
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
H01L213205
IPC分类号：
H01L21285
H01L21205
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人：
王维玉;丁业平
法律状态：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-11-05 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101706920558 IPC(主分类):H01L 21/3205 专利号:ZL021079706 变更事项:专利权人 变更前:莫塞德技术公司 变更后:考文森智财管理公司 变更事项:地址 变更前:加拿大安大略省 变更后:加拿大安大略省 |
| 2005-06-01 | 授权 | 授权 |
| 2002-10-30 | 公开 | 公开 |
| 2003-06-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2012-04-18 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101332930665 IPC(主分类):H01L 21/3205 专利号:ZL021079706 变更事项:专利权人 变更前权利人:三星电子株式会社 变更后权利人:莫塞德技术公司 变更事项:地址 变更前权利人:韩国京畿道 变更后权利人:加拿大安大略省 登记生效日:20120312 |
| 2016-05-11 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101659972343 IPC(主分类):H01L 21/3205 专利号:ZL021079706 申请日:20020322 授权公告日:20050601 终止日期:20150322 |