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等离子体腔室及等离子体加工设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710137713.6
申请日
:
2017-03-09
公开(公告)号
:
CN108573846A
公开(公告)日
:
2018-09-25
发明(设计)人
:
肖德志
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
彭瑞欣;张天舒
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-09-25
公开
公开
2018-10-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170309
共 50 条
[1]
等离子体产生装置及等离子体加工设备
[P].
杨靖
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
杨靖
;
刘涛
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
刘涛
;
乐卫平
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
乐卫平
;
宋成
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
宋成
;
张文杰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
张文杰
;
谢幸光
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
谢幸光
.
中国专利
:CN222776358U
,2025-04-18
[2]
等离子体腔体组件及等离子体设备
[P].
黄春林
论文数:
0
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0
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0
机构:
成都沃特塞恩电子技术有限公司
成都沃特塞恩电子技术有限公司
黄春林
;
刘文科
论文数:
0
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0
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0
机构:
成都沃特塞恩电子技术有限公司
成都沃特塞恩电子技术有限公司
刘文科
;
胡宗义
论文数:
0
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0
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0
机构:
成都沃特塞恩电子技术有限公司
成都沃特塞恩电子技术有限公司
胡宗义
;
李东亚
论文数:
0
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0
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0
机构:
成都沃特塞恩电子技术有限公司
成都沃特塞恩电子技术有限公司
李东亚
;
李俊宏
论文数:
0
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0
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0
机构:
成都沃特塞恩电子技术有限公司
成都沃特塞恩电子技术有限公司
李俊宏
.
中国专利
:CN220420525U
,2024-01-30
[3]
壳体组件、等离子体产生装置及等离子体加工设备
[P].
杨靖
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
杨靖
;
刘涛
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
刘涛
;
乐卫平
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
乐卫平
;
宋成
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
宋成
;
张文杰
论文数:
0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
张文杰
;
谢幸光
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
谢幸光
.
中国专利
:CN222914726U
,2025-05-27
[4]
上电极系统、等离子体腔室及等离子体产生方法
[P].
刘春明
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘春明
.
中国专利
:CN110536533A
,2019-12-03
[5]
等离子体腔室及半导体加工设备
[P].
贾强
论文数:
0
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0
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0
贾强
;
郭浩
论文数:
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引用数:
0
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郭浩
.
中国专利
:CN109755089A
,2019-05-14
[6]
等离子体腔室衬垫
[P].
埃里克·克哈雷·施诺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
埃里克·克哈雷·施诺
.
中国专利
:CN304826204S
,2018-09-21
[7]
等离子体腔室衬垫
[P].
埃里克·克哈雷·施诺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
埃里克·克哈雷·施诺
.
中国专利
:CN304826182S
,2018-09-21
[8]
利用可调等离子体电势的可变模式等离子体腔室
[P].
S·E·萨瓦
论文数:
0
引用数:
0
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0
S·E·萨瓦
;
马绍铭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马绍铭
.
中国专利
:CN112640027B
,2021-04-09
[9]
等离子体头及等离子体产生装置
[P].
佐野裕贵
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
株式会社富士
株式会社富士
佐野裕贵
;
池户俊之
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社富士
株式会社富士
池户俊之
;
岩田卓也
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
株式会社富士
株式会社富士
岩田卓也
.
日本专利
:CN119054416A
,2024-11-29
[10]
等离子体加工设备
[P].
张小昂
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张小昂
.
中国专利
:CN102243976A
,2011-11-16
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