壳体组件、等离子体产生装置及等离子体加工设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202421483470.3

申请日：

2024-06-26

公开(公告)号：

CN222914726U

公开(公告)日：

2025-05-27

发明(设计)人：

杨靖刘涛乐卫平宋成张文杰谢幸光

申请人：

深圳市恒运昌真空技术股份有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区西乡街道铁岗社区桃花源智创小镇功能配套区B栋101,201,301

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/16 H01J37/08

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287

代理人：

陈满谊

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-27	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体产生装置及等离子体加工设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN222776358U ,2025-04-18

[2]

等离子体产生组件及等离子体处理装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN210984687U ,2020-07-10

[3]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26

[4]

等离子体头及等离子体产生装置 [P].

佐野裕贵 ;

池户俊之 ;

岩田卓也 .

日本专利 :CN119054416A ,2024-11-29

[5]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400856A ,2024-07-26

[6]

等离子体腔室及等离子体加工设备 [P].

肖德志 .

中国专利 :CN108573846A ,2018-09-25

[7]

等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P].

熊谷裕典 ;

今井伸一 .

中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04

[8]

等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P].

尤里·N·托尔马切夫 ;

马东俊 ;

金大一 ;

瑟吉·Y·纳瓦拉 .

中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10

[9]

电感耦合等离子体产生装置及等离子体加工设备 [P].

常楷 .

中国专利 :CN107864545B ,2018-03-30

[10]

连接组件及等离子体产生装置 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN222749839U ,2025-04-11

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