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一种多功能组合型纳米图形制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410658845.X
申请日
:
2014-11-18
公开(公告)号
:
CN104355287A
公开(公告)日
:
2015-02-18
发明(设计)人
:
张勇辉
魏同波
王军喜
李晋闽
申请人
:
申请人地址
:
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
:
B81C100
IPC分类号
:
G03F720
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
宋焰琴
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-03-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101602349323 IPC(主分类):B81C 1/00 专利申请号:201410658845X 申请日:20141118
2015-02-18
公开
公开
2016-08-24
授权
授权
共 50 条
[1]
一种锐角金属图形制作方法
[P].
陈一峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈一峰
.
中国专利
:CN106653580B
,2017-05-10
[2]
一种自对准双重图形制作方法
[P].
邱岩栈
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
邱岩栈
;
陈颖儒
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0
机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
陈颖儒
;
刘立尧
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
刘立尧
;
胡展源
论文数:
0
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0
机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
胡展源
.
中国专利
:CN113782419B
,2025-03-18
[3]
一种自对准双重图形制作方法
[P].
邱岩栈
论文数:
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邱岩栈
;
陈颖儒
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陈颖儒
;
刘立尧
论文数:
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刘立尧
;
胡展源
论文数:
0
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胡展源
.
中国专利
:CN113782419A
,2021-12-10
[4]
光刻胶台阶图形制作方法
[P].
不公告发明人
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0
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0
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0
不公告发明人
.
中国专利
:CN108121156A
,2018-06-05
[5]
基于多重曝光的图形制作方法
[P].
毛晓明
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毛晓明
;
毛智彪
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毛智彪
;
杨正凯
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杨正凯
;
陈晓强
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陈晓强
.
中国专利
:CN105137725A
,2015-12-09
[6]
三维电极图形制作方法
[P].
林丙涛
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0
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0
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林丙涛
.
中国专利
:CN103407959A
,2013-11-27
[7]
一种纳米图形底衬的制作方法
[P].
周雅慧
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周雅慧
;
郭明灿
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郭明灿
;
郭文平
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郭文平
;
许南发
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许南发
.
中国专利
:CN104393122A
,2015-03-04
[8]
一种纳米结构的图形转移制作方法
[P].
马志波
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马志波
;
姜澄宇
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姜澄宇
;
苑伟政
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0
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0
苑伟政
.
中国专利
:CN102323716A
,2012-01-18
[9]
一种带有大面积纳米图形的蓝宝石模板制作方法
[P].
杜成孝
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杜成孝
;
魏同波
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0
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魏同波
;
吴奎
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吴奎
;
王军喜
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王军喜
;
李晋闽
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李晋闽
.
中国专利
:CN103545173A
,2014-01-29
[10]
纳米T型栅的制作方法
[P].
张立森
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张立森
;
邢东
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邢东
;
王俊龙
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王俊龙
;
梁士雄
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梁士雄
;
杨大宝
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杨大宝
;
冯志红
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冯志红
.
中国专利
:CN105118774B
,2015-12-02
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