衬底结构和其形成方法以及半导体封装结构

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专利类型
发明
申请号
CN202110648531.1
申请日
2021-06-10
公开(公告)号
CN113809059A
公开(公告)日
2021-12-17
发明(设计)人
许武州 陈敏尧
申请人
申请人地址
中国台湾高雄市楠梓区经三路26号
IPC主分类号
H01L2516
IPC分类号
H01L23498 H01L2148 H01L2150 H01L2331
代理机构
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
蕭輔寬
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体封装结构、半导体封装结构的形成方法以及半导体组装结构的形成方法 [P]. 
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吴志伟 ;
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[2]
半导体衬底、半导体封装结构和其制造方法 [P]. 
姜裕求 ;
金政勋 ;
林星默 .
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[3]
衬底结构、封装方法和半导体封装结构 [P]. 
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[4]
衬底结构和半导体封装结构 [P]. 
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[5]
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[6]
半导体封装结构和半导体衬底 [P]. 
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[7]
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[8]
半导体封装和其形成方法 [P]. 
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[9]
衬底结构、包含衬底结构的半导体封装结构,以及制造半导体封装结构的半导体工艺 [P]. 
吕文隆 .
中国专利 :CN109712941A ,2019-05-03
[10]
衬底结构、半导体封装结构和半导体工艺 [P]. 
何政霖 ;
李志成 .
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