一种闭合场非平衡磁控溅射制备铬铝氮薄膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910074779.0

申请日：

2009-06-15

公开(公告)号：

CN101575696B

公开(公告)日：

2009-11-11

发明(设计)人：

许并社余春燕郭端阳张竹霞彭彦彬

申请人：

申请人地址：

030024 山西省太原市迎泽西大街79号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1406

代理机构：

太原市科瑞达专利代理有限公司 14101

代理人：

江淑兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-11-11	公开	公开
2010-01-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-07-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件序号:101502158784 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2009100747790 申请日:20090615 授权公告日:20110511 终止日期:20120615 号牌文件类型代码:1605
2011-05-11	授权	授权

共 50 条

[1]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN202643827U ,2013-01-02

[2]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN102677011B ,2012-09-19

[3]

一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN202643826U ,2013-01-02

[4]

一种非平衡磁控溅射镀锌装置 [P].

马志洋 .

中国专利 :CN206814838U ,2017-12-29

[5]

一种磁镜场约束双靶非平衡磁控溅射方法 [P].

牟宗信 ;

贾莉 ;

李国卿 ;

赵华玉 ;

刘升光 .

中国专利 :CN1948548A ,2007-04-18

[6]

一种利用非平衡磁控溅射技术制备Fe-Si薄膜的方法 [P].

章嵩 ;

魏耕 ;

涂溶 ;

王传彬 ;

沈强 ;

张联盟 .

中国专利 :CN110004419A ,2019-07-12

[7]

一种基于闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备梯度Ti-DLC复合自润滑薄膜的方法 [P].

闫牧夫 ;

张诗东 ;

张雁祥 ;

闫扶摇 .

中国专利 :CN118166324A ,2024-06-11

[8]

一种非平衡磁控溅射镀钽装置 [P].

陈光英 ;

王国华 ;

宋坤 ;

刘江 .

中国专利 :CN216808951U ,2022-06-24

[9]

一种非平衡磁控溅射离子镀磁场闭合状态控制方法 [P].

虞建忠 .

中国专利 :CN103834922A ,2014-06-04

[10]

一种用于超高功率脉冲非平衡磁控溅射的电源方法 [P].

牟宗信 ;

王振伟 ;

贾莉 ;

李国卿 ;

赵华玉 ;

张鹏云 .

中国专利 :CN1948547A ,2007-04-18

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