一种等离子体材料处理设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN200420066560.9
申请日
2004-06-23
公开(公告)号
CN2718948Y
公开(公告)日
2005-08-17
发明(设计)人
陈光良 杨思泽 张谷令 王久丽 刘元富 冯文然 刘赤子
申请人
申请人地址
100080北京市海淀区中关村南三街8号
IPC主分类号
H05H142
IPC分类号
B01J824 B01J1908
代理机构
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人
王凤华
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种低温等离子体材料处理设备 [P]. 
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[2]
在常温大气压下对材料进行处理的等离子体流化床及方法 [P]. 
陈光良 ;
杨思泽 ;
张谷令 ;
王久丽 ;
刘元富 ;
冯文然 ;
刘赤子 .
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[3]
等离子体处理设备 [P]. 
深泽孝之 .
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[7]
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一种等离子体处理设备 [P]. 
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