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导电性氧化物烧结体及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380002734.7
申请日
:
2013-01-21
公开(公告)号
:
CN103748055A
公开(公告)日
:
2014-04-23
发明(设计)人
:
奈良淳史
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
C04B35453
IPC分类号
:
C23C1434
H01B514
H01B108
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
王海川;穆德骏
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-04-23
公开
公开
2015-06-10
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101612400960 IPC(主分类):C04B 35/453 专利申请号:2013800027347 申请日:20130121
2017-10-13
授权
授权
共 50 条
[1]
氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法
[P].
奈良淳史
论文数:
0
引用数:
0
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0
奈良淳史
.
中国专利
:CN105481352A
,2016-04-13
[2]
氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法
[P].
奈良淳史
论文数:
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0
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0
奈良淳史
.
中国专利
:CN109437856A
,2019-03-08
[3]
氧化物烧结体、氧化物溅射靶和高折射率的导电性氧化物薄膜、以及氧化物烧结体的制造方法
[P].
奈良淳史
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奈良淳史
.
中国专利
:CN104736497B
,2015-06-24
[4]
氧化物烧结体、溅射靶材、透明导电性薄膜及其制造方法
[P].
阿部能之
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阿部能之
;
中山德行
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中山德行
;
小原刚
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小原刚
;
和气理一郎
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和气理一郎
.
中国专利
:CN1690011A
,2005-11-02
[5]
形成导电性氧化物膜的方法、导电性氧化物膜及其应用
[P].
J·毛拉
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J·毛拉
.
中国专利
:CN102666914B
,2012-09-12
[6]
气体传感器用导电性氧化物烧结体、导电性氧化物烧结体、布线基板以及气体传感器
[P].
佐藤未那
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佐藤未那
;
广濑吉进
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广濑吉进
;
清家晃
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清家晃
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小塚久司
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小塚久司
;
冲村康之
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冲村康之
;
大林和重
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大林和重
.
中国专利
:CN107731339B
,2018-02-23
[7]
导电性氧化物及其制造方法以及氧化物半导体膜
[P].
宫永美纪
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宫永美纪
;
曾我部浩一
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曾我部浩一
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粟田英章
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粟田英章
;
冈田浩
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冈田浩
;
吉村雅司
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吉村雅司
.
中国专利
:CN103608310B
,2014-02-26
[8]
导电性氧化物烧结体、导电用构件和气体传感器
[P].
小塚久司
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小塚久司
;
佐藤未那
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佐藤未那
;
冲村康之
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冲村康之
;
大林和重
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大林和重
.
中国专利
:CN107614462B
,2018-01-19
[9]
透光性稀土氧化物烧结体及其制造方法
[P].
藤田光广
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藤田光广
;
入江正树
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入江正树
.
中国专利
:CN1958512A
,2007-05-09
[10]
氧化物烧结体、溅射靶和薄膜以及氧化物烧结体的制造方法
[P].
奈良淳史
论文数:
0
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奈良淳史
.
中国专利
:CN105986230A
,2016-10-05
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