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基于等离子体的激光调谐方法及系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311585507.3
申请日
:
2023-11-24
公开(公告)号
:
CN117578164A
公开(公告)日
:
2024-02-20
发明(设计)人
:
鲁巍
何运孝
华剑飞
申请人
:
清华大学
申请人地址
:
100084 北京市海淀区清华园1号
IPC主分类号
:
H01S3/00
IPC分类号
:
G02F1/35
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
李茂家;周蕾
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-08
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01S 3/00申请日:20231124
2024-05-28
授权
授权
2024-02-20
公开
公开
共 50 条
[1]
基于等离子体的激光调谐方法及系统
[P].
论文数:
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机构:
鲁巍
;
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机构:
何运孝
;
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机构:
华剑飞
.
中国专利
:CN117578164B
,2024-05-28
[2]
基于激光调谐等离子体共振的制备超晶格SERS基底方法
[P].
吴坚
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吴坚
;
胡佑瑾
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胡佑瑾
;
白石
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白石
.
中国专利
:CN113640270A
,2021-11-12
[3]
激光泵浦等离子体光源和等离子体点燃方法
[P].
D·B·阿布拉门科
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机构:
伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
D·B·阿布拉门科
;
R·R·盖亚索夫
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机构:
伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
R·R·盖亚索夫
;
V·M·克里夫森
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机构:
伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
V·M·克里夫森
;
A·A·拉什
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伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
A·A·拉什
;
Y·B·基里尤金
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伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
Y·B·基里尤金
;
D·A·格卢什科夫
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机构:
伊斯泰克私人有限公司
伊斯泰克私人有限公司
D·A·格卢什科夫
.
:CN115210849B
,2025-06-24
[4]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
森口尚树
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森口尚树
.
中国专利
:CN105103274A
,2015-11-25
[5]
等离子体射流装置及等离子体切割系统
[P].
李海龙
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李海龙
;
吴丹阳
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吴丹阳
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王彬
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王彬
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殷勇
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殷勇
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蒙林
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蒙林
;
师嘉豪
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师嘉豪
.
中国专利
:CN113068295A
,2021-07-02
[6]
等离子体发电系统
[P].
N.罗斯托克
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N.罗斯托克
;
M.宾德鲍尔
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M.宾德鲍尔
;
F.韦塞尔
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F.韦塞尔
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A.钟
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A.钟
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V.拜斯特里特斯基
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V.拜斯特里特斯基
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Y.宋
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Y.宋
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M.安德森
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M.安德森
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E.加拉特
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E.加拉特
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艾伦·文德里
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艾伦·文德里
.
中国专利
:CN102291925A
,2011-12-21
[7]
等离子体发电系统
[P].
N·罗斯托克
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N·罗斯托克
;
M·宾德鲍尔
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M·宾德鲍尔
;
F·韦塞尔
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F·韦塞尔
;
A·钟
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A·钟
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V·拜斯特里特斯基
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V·拜斯特里特斯基
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Y·宋
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Y·宋
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M·安德森
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M·安德森
;
E·加拉特
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E·加拉特
;
艾伦·文德里
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艾伦·文德里
.
中国专利
:CN101189684A
,2008-05-28
[8]
等离子体处理晶片的方法、等离子体控制方法及反应系统
[P].
陈嘉任
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陈嘉任
;
顾文昱
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顾文昱
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吴奇颖
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吴奇颖
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林燕飞
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林燕飞
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陈冠中
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陈冠中
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陈嘉直
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陈嘉直
.
中国专利
:CN108987227B
,2018-12-11
[9]
一种提取激光等离子体轮廓的系统及方法
[P].
袁欢
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袁欢
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柯伟
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柯伟
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王小华
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王小华
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杨爱军
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杨爱军
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刘定新
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刘定新
;
荣命哲
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荣命哲
.
中国专利
:CN113358272A
,2021-09-07
[10]
等离子体设备及等离子体密度的调节方法
[P].
杨平
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机构:
上海稷以科技有限公司
上海稷以科技有限公司
杨平
.
中国专利
:CN119361408B
,2025-03-21
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