超结半导体的源区自对准注入方法及超结半导体结构

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410097708.7
申请日
2024-01-24
公开(公告)号
CN117612935A
公开(公告)日
2024-02-27
发明(设计)人
田俊 付振 张泉 肖超 尹强 张文敏 王悦
申请人
北京智芯微电子科技有限公司 北京芯可鉴科技有限公司
申请人地址
100192 北京市海淀区西小口路66号中关村东升科技园A区3号楼
IPC主分类号
H01L21/266
IPC分类号
H01L29/06 H01L29/08
代理机构
北京正砚知识产权代理有限公司 16161
代理人
高敏
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
北京市 市辖区
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共 50 条
[1]
超结半导体的自对准接触槽形成方法及超结半导体结构 [P]. 
田俊 ;
付振 ;
张泉 ;
肖超 ;
尹强 ;
张文敏 ;
王悦 .
中国专利 :CN117637607A ,2024-03-01
[2]
智能超结半导体结构 [P]. 
赵勇 ;
廖巍 .
中国专利 :CN120751749A ,2025-10-03
[3]
超结半导体装置及超结半导体装置的制造方法 [P]. 
西村武义 ;
前田凉 ;
菅井勇 .
日本专利 :CN111952352B ,2025-02-21
[4]
超结半导体装置及超结半导体装置的制造方法 [P]. 
西村武义 ;
前田凉 ;
菅井勇 .
中国专利 :CN111952352A ,2020-11-17
[5]
超结器件和包括该超结器件的半导体结构 [P]. 
F.希尔勒 ;
A.毛德 .
中国专利 :CN203659870U ,2014-06-18
[6]
超结半导体装置及超结半导体装置的制造方法 [P]. 
坂田敏明 .
中国专利 :CN111816694A ,2020-10-23
[7]
超结半导体装置及超结半导体装置的制造方法 [P]. 
坂田敏明 .
日本专利 :CN111816694B ,2025-04-18
[8]
超结半导体装置以及超结半导体装置的制造方法 [P]. 
西村武义 .
中国专利 :CN113539830A ,2021-10-22
[9]
超结半导体装置 [P]. 
曹大为 ;
大西泰彦 .
中国专利 :CN103650141B ,2014-03-19
[10]
超结半导体器件 [P]. 
李宝杰 ;
任文珍 ;
丛茂杰 ;
陆珏 ;
徐旭东 .
中国专利 :CN119364831B ,2025-05-16