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束流分布监测装置、分子束外延设备及束流分布监测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311303443.3
申请日
:
2023-10-10
公开(公告)号
:
CN117406263A
公开(公告)日
:
2024-01-16
发明(设计)人
:
彭长四
周均铭
林凡
倪健
申请人
:
埃特曼半导体技术有限公司
申请人地址
:
361000 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号101室
IPC主分类号
:
G01T1/29
IPC分类号
:
C30B25/16
C23C16/52
G01T7/00
代理机构
:
苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502
代理人
:
朱磊;李洋
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
福建省 厦门市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-02
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01T 1/29申请日:20231010
2024-01-16
公开
公开
共 50 条
[1]
束流探测装置及分子束外延设备
[P].
楼厦
论文数:
0
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
楼厦
;
王旭光
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
王旭光
;
董海云
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
董海云
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN221039441U
,2024-05-28
[2]
分子束流限制装置及分子束外延设备
[P].
倪健
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倪健
;
吴亮亮
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吴亮亮
;
薛聪
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薛聪
.
中国专利
:CN215560800U
,2022-01-18
[3]
分子束外延设备及分子束外延设备的控制方法
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
杨晓楠
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
杨晓楠
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN117403323A
,2024-01-16
[4]
束流分布专用探测装置和束流分布探测方法
[P].
赵博震
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赵博震
;
郭云开
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郭云开
;
张战强
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张战强
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韦亮军
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韦亮军
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王雪
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王雪
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张文剑
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张文剑
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李树伟
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李树伟
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朱维彬
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朱维彬
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邹湘
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邹湘
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于昊
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于昊
;
李荐民
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李荐民
.
中国专利
:CN115436989A
,2022-12-06
[5]
束流分布专用探测装置和束流分布探测方法
[P].
赵博震
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机构:
同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
赵博震
;
郭云开
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
郭云开
;
张战强
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
张战强
;
韦亮军
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
韦亮军
;
王雪
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
王雪
;
张文剑
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
张文剑
;
李树伟
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
李树伟
;
朱维彬
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
朱维彬
;
邹湘
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同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
邹湘
;
于昊
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机构:
同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
于昊
;
李荐民
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机构:
同方威视技术股份有限公司
同方威视技术股份有限公司
李荐民
.
中国专利
:CN115436989B
,2025-08-29
[6]
分子束外延设备的源炉及分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220788877U
,2024-04-16
[7]
隔离装置及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
楼厦
;
薛聪
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
薛聪
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220724410U
,2024-04-05
[8]
分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
楼厦
;
薛聪
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
薛聪
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220746138U
,2024-04-09
[9]
源炉挡板装置及分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
董海云
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
董海云
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220867574U
,2024-04-30
[10]
分子束外延设备的样品台及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
楼厦
;
倪健
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
倪健
;
赵金堂
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
赵金堂
.
中国专利
:CN120425453A
,2025-08-05
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