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衬底处理系统和用于操作衬底处理系统的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980068370.X
申请日
:
2019-08-08
公开(公告)号
:
CN112868084B
公开(公告)日
:
2024-04-26
发明(设计)人
:
罗伟易
洪延姬
钟伟武
希曼舒·乔克斯
申请人
:
朗姆研究公司
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
H01L21/67
H01L21/3065
代理机构
:
上海胜康律师事务所 31263
代理人
:
李献忠;张华
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-26
授权
授权
共 50 条
[1]
衬底处理系统和衬底处理方法
[P].
长野泰博
论文数:
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0
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长野泰博
;
伊藤规宏
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伊藤规宏
.
中国专利
:CN101042540A
,2007-09-26
[2]
衬底处理系统和衬底处理方法
[P].
长野泰博
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长野泰博
;
伊藤规宏
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伊藤规宏
.
中国专利
:CN1316572C
,2004-03-10
[3]
衬底处理系统
[P].
经常友
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机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
经常友
;
本尼·吴
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机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
本尼·吴
;
亚历山大·米赫宁科
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机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
亚历山大·米赫宁科
;
斯洛博丹·米特罗维奇
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机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
斯洛博丹·米特罗维奇
.
美国专利
:CN114175208B
,2024-05-24
[4]
衬底处理系统
[P].
J·T·穆拉
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机构:
博鲁可斯自动化美国有限责任公司
博鲁可斯自动化美国有限责任公司
J·T·穆拉
;
R·T·卡夫尼
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机构:
博鲁可斯自动化美国有限责任公司
博鲁可斯自动化美国有限责任公司
R·T·卡夫尼
.
美国专利
:CN118661248A
,2024-09-17
[5]
衬底处理系统和使用该衬底处理系统的衬底处理方法
[P].
朴相真
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴相真
;
朴智焕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴智焕
;
李根泽
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李根泽
.
韩国专利
:CN119275128A
,2025-01-07
[6]
衬底处理系统,和衬底处理方法
[P].
郭信生
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郭信生
;
王开安
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王开安
.
中国专利
:CN102122599A
,2011-07-13
[7]
衬底处理方法、衬底处理系统
[P].
山田善章
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山田善章
;
山口忠之
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山口忠之
;
山本雄一
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山本雄一
;
杂贺康仁
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杂贺康仁
;
泽井和夫
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泽井和夫
.
中国专利
:CN101496140B
,2009-07-29
[8]
衬底处理方法和衬底处理系统
[P].
山本雄一
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山本雄一
.
中国专利
:CN101536151B
,2009-09-16
[9]
衬底处理系统
[P].
金成弼
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金成弼
;
金成铉
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金成铉
.
韩国专利
:CN121192031A
,2025-12-23
[10]
衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备
[P].
茂森和士
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茂森和士
;
金山幸司
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金山幸司
;
金冈雅
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金冈雅
;
宫城聪
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宫城聪
;
安田周一
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安田周一
.
中国专利
:CN100470719C
,2007-07-04
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