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一种BOE蚀刻液
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211398200.8
申请日
:
2022-11-09
公开(公告)号
:
CN118048156A
公开(公告)日
:
2024-05-17
发明(设计)人
:
鄢艳华
夏明鹏
姜希松
周达文
申请人
:
深圳新宙邦科技股份有限公司
申请人地址
:
518000 广东省深圳市坪山新区沙坣同富裕工业区
IPC主分类号
:
C09K13/06
IPC分类号
:
C09K13/08
代理机构
:
深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325
代理人
:
张美君
法律状态
:
公开
国省代码
:
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-17
公开
公开
2024-06-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C09K 13/06申请日:20221109
共 50 条
[1]
一种BOE蚀刻液
[P].
夏明鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
夏明鹏
;
鄢艳华
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
鄢艳华
;
姜希松
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0
机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
姜希松
.
中国专利
:CN119614202A
,2025-03-14
[2]
一种BOE蚀刻液
[P].
董俊卿
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董俊卿
;
徐倩
论文数:
0
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徐倩
;
卢景煜
论文数:
0
引用数:
0
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0
卢景煜
.
中国专利
:CN111892931A
,2020-11-06
[3]
一种BOE蚀刻液及其应用
[P].
鄢艳华
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
鄢艳华
;
庾明茂
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
庾明茂
;
夏明鹏
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
夏明鹏
;
姜希松
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
姜希松
;
周达文
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
周达文
.
中国专利
:CN118165733A
,2024-06-11
[4]
一种用于氧化硅层的BOE蚀刻液
[P].
庾明茂
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
庾明茂
;
鄢艳华
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
鄢艳华
;
周达文
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
周达文
;
姜希松
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
姜希松
;
夏明鹏
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0
机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
夏明鹏
.
中国专利
:CN117660012A
,2024-03-08
[5]
一种选择性BOE蚀刻液
[P].
杨华春
论文数:
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
杨华春
;
栗广奉
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
栗广奉
;
闫春生
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
闫春生
;
杨水艳
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
杨水艳
;
韩广欣
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
韩广欣
;
王泽国
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
王泽国
;
尚钟声
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
尚钟声
;
叶文豪
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
叶文豪
;
吴海峰
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
吴海峰
;
李霞
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机构:
多氟多新材料股份有限公司
多氟多新材料股份有限公司
李霞
.
中国专利
:CN117511549A
,2024-02-06
[6]
一种BOE蚀刻液组合物
[P].
王海
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王海
;
田志扬
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田志扬
;
潘绍忠
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潘绍忠
;
张晓东
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张晓东
;
张学良
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张学良
;
傅明星
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傅明星
;
王瑞
论文数:
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0
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王瑞
.
中国专利
:CN103756681A
,2014-04-30
[7]
一种复合膜层用BOE蚀刻液
[P].
戈烨铭
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戈烨铭
;
何珂
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何珂
;
汤晓春
论文数:
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0
汤晓春
.
中国专利
:CN113429974A
,2021-09-24
[8]
一种BOE蚀刻液的制备方法
[P].
王海
论文数:
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0
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王海
;
田志扬
论文数:
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田志扬
;
张晓东
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0
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张晓东
;
潘绍忠
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潘绍忠
;
张学良
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张学良
;
韩虹羽
论文数:
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韩虹羽
;
魏俊明
论文数:
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0
魏俊明
.
中国专利
:CN103756680A
,2014-04-30
[9]
一种用于集成电路制程中氧化硅减薄或去除的BOE蚀刻液
[P].
鄢艳华
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
鄢艳华
;
夏明鹏
论文数:
0
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
夏明鹏
;
姜希松
论文数:
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机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
姜希松
;
周达文
论文数:
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0
机构:
深圳新宙邦科技股份有限公司
深圳新宙邦科技股份有限公司
周达文
.
中国专利
:CN119193162A
,2024-12-27
[10]
一种半导体BOE蚀刻液、其制备方法及用途
[P].
侯军
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
侯军
;
武文东
论文数:
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
武文东
;
赵晓莹
论文数:
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
赵晓莹
;
杨茂森
论文数:
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0
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
杨茂森
;
任洁
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0
机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
任洁
.
中国专利
:CN117821069A
,2024-04-05
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