一种确定关键图形光刻工艺条件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311626532.1

申请日：

2023-11-30

公开(公告)号：

CN117420738A

公开(公告)日：

2024-01-19

发明(设计)人：

温斐旻闫丽荣王岳李海涛

申请人：

安徽光智科技有限公司

申请人地址：

239064 安徽省滁州市琅琊经济开发区南京路100号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京天盾知识产权代理有限公司 11421

代理人：

肖小龙

法律状态：

公开

国省代码：

安徽省安庆市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-19	公开	公开
2024-02-06	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231130

共 50 条

[1]

确定光刻工艺窗口的方法 [P].

高松 ;

张聪 ;

胡丹丹 .

中国专利 :CN110632827A ,2019-12-31

[2]

一种在线确定光刻工艺窗口的方法 [P].

李中华 ;

毛智彪 ;

甘志锋 .

中国专利 :CN103995439B ,2014-08-20

[3]

一种确定接触孔光刻工艺条件方法 [P].

常方强 ;

强人峰 ;

胡宁 ;

孟昭生 .

中国专利 :CN117389116A ,2024-01-12

[4]

确定光刻工艺窗口的方法 [P].

毛智彪 ;

王剑 ;

戴韫青 .

中国专利 :CN102436149A ,2012-05-02

[5]

一种确定光刻工艺窗口的方法 [P].

左凯 .

中国专利 :CN120871557A ,2025-10-31

[6]

一种确定光刻工艺的光源光照强度分布的方法 [P].

彭瑶 ;

张进宇 .

中国专利 :CN102096336A ,2011-06-15

[7]

确定光刻工艺的光源光照强度分布和掩膜版图形的方法 [P].

张进宇 ;

彭瑶 ;

王燕 ;

余志平 .

中国专利 :CN102169295A ,2011-08-31

[8]

光刻工艺窗口确定方法 [P].

周国栋 ;

陈甫讯 ;

陈泽阳 ;

高大为 .

中国专利 :CN120595541A ,2025-09-05

[9]

检测光刻工艺与薄膜沉积工艺契合度的方法 [P].

范荣伟 ;

龙吟 ;

陈宏璘 ;

倪棋梁 .

中国专利 :CN103346106A ,2013-10-09

[10]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110632829A ,2019-12-31

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