包括竖直沟道晶体管、位线和外围栅极的半导体器件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311536413.7
申请日
2023-11-16
公开(公告)号
CN118076101A
公开(公告)日
2024-05-24
发明(设计)人
慎重赞 李基硕 朴硕汉 申硕浩
申请人
三星电子株式会社
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H10B12/00
IPC分类号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
范心田;倪斌
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
包括垂直沟道晶体管的半导体器件 [P]. 
赵炯纪 ;
卞诚载 .
韩国专利 :CN119907235A ,2025-04-29
[2]
多方向沟道晶体管和包括多方向沟道晶体管的半导体器件 [P]. 
丁海仁 ;
郑文泳 ;
韩俊 ;
山田悟 .
韩国专利 :CN111725314B ,2024-02-23
[3]
多方向沟道晶体管和包括多方向沟道晶体管的半导体器件 [P]. 
丁海仁 ;
郑文泳 ;
韩俊 ;
山田悟 .
中国专利 :CN111725314A ,2020-09-29
[4]
制造包括垂直沟道晶体管的半导体器件的方法 [P]. 
姜相吉 .
中国专利 :CN101740500B ,2010-06-16
[5]
包括晶体管的半导体器件 [P]. 
高东辰 .
韩国专利 :CN119584549A ,2025-03-07
[6]
包括掩埋沟道阵列晶体管的半导体器件 [P]. 
蔡教锡 ;
林兑旭 ;
魏圣柱 ;
占承基 .
韩国专利 :CN120857610A ,2025-10-28
[7]
包括垂直沟道晶体管的半导体装置 [P]. 
郑文泳 .
韩国专利 :CN120512887A ,2025-08-19
[8]
晶体管、半导体器件和制造晶体管、半导体器件的方法 [P]. 
朴宰彻 ;
权奇元 .
中国专利 :CN101582453B ,2009-11-18
[9]
垂直沟道晶体管以及包括垂直沟道晶体管的存储器件 [P]. 
金真怜 ;
宋基焕 .
中国专利 :CN101150132B ,2008-03-26
[10]
包括LDMOS晶体管的半导体器件 [P]. 
藤井宏基 .
中国专利 :CN1755944A ,2006-04-05