化学气相沉积方法和涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280062891.6

申请日：

2022-08-18

公开(公告)号：

CN117980530A

公开(公告)日：

2024-05-03

发明(设计)人：

N·A·斯奈德 D·A·史密斯 L·D·帕特森 J·B·马特泽拉

申请人：

西尔科特克公司

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

C23C16/24

IPC分类号：

C23C16/40 C23C16/26 C23C16/56 F17C3/12

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

王永建

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/24申请日:20220818
2024-05-03	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积涂层、制品和方法 [P].

D·A·史密斯 ;

J·B·马特泽拉 ;

P·H·西尔维斯 ;

G·A·贝伦 .

中国专利 :CN102741452A ,2012-10-17

[2]

化学气相沉积涂层、制品和方法 [P].

D·A·史密斯 ;

J·B·马特泽拉 ;

P·H·西尔维斯 ;

G·A·贝伦 .

中国专利 :CN106319477A ,2017-01-11

[3]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[4]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[5]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[8]

化学气相沉积方法和装置 [P].

D·J·德罗西耶 ;

C·R·费罗 .

中国专利 :CN108884563A ,2018-11-23

[9]

化学气相沉积方法和装置 [P].

许芷萍 ;

黄欣欣 .

中国专利 :CN110578132A ,2019-12-17

[10]

化学气相沉积方法和装置 [P].

李兴存 .

中国专利 :CN104746045A ,2015-07-01

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