共 50 条
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一种半导体清洗设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202321946447.9
申请日：
2023-07-23
公开(公告)号：
CN220371740U
公开(公告)日：
2024-01-23
发明(设计)人：
廖齐文
王青英
申请人：
四川省廖氏科技有限公司
申请人地址：
610041 四川省成都市武侯区祥云路1169号1栋4层28号
IPC主分类号：
B08B3/02
IPC分类号：
B08B3/08
B08B1/14
B08B1/30
B08B13/00
H01L21/67
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
四川省
成都市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-01-23 | 授权 | 授权 |